机译:在不同沉积温度下通过射频溅射在Si(1 0 0)上Zro_xn_y薄膜的结构,光学性质和带隙取向
Key Laboratory of Materials Physics, Anhui Key Laboratory of Nanomaterials and Nanostructure, Institute of Solid State Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei 230031, People's Republic of China;
x-ray photoelectron spectroscopy (xps); sputtering; spectroscopy ellipsometry; band-offset;
机译:溅射功率和退火温度对射频磁控溅射技术制备的AI_2O_3:CuO薄膜的结构和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射在不同衬底温度下制备的BaTiO3薄膜的结构和光学性质
机译:通过射频溅射沉积的PBS薄膜的结构和光学温度依赖性
机译:通过射频磁控溅射沉积制造的Mg-Si薄膜的结构和电性能
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:不同生长角度的射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学性质
机译:溅射压力对射频磁控溅射制备的Zn_