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Surface morphology for ion-beam sputtered A1 layer with varying sputtering conditions

机译：溅射条件不同的离子束溅射Al层的表面形貌

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We study the growth morphology of thin macrostructure films which is known to be largely affected by the deposition conditions as thin film nucleation and formation is dependent on the kinetic energy and chemical free energy of the atoms. The ion-beam sputtering technique used for depositing thin layers is due to the advantage over other techniques, e.g. the independent control of many process parameters, such as the pressure and/or the energy of the ion-beam and the substrate temperature. Therefore, the dependence of various sputtering parameters such as: (i) sputtering pressure and/or the rate of deposition and (ii) the effect of substrate temperature on the growth has been studied by depositing a single layer of Al. The variations show some interesting dependencies on the structural parameters for the Al layer deposited which has been understood in terms of thin film growth and nucleation theory. (c) 2005 Elsevier B.V. All rights reserved.
机译：我们研究了薄的宏观结构薄膜的生长形态，已知该形态在很大程度上受沉积条件的影响，因为薄膜的成核和形成取决于原子的动能和化学自由能。用于沉积薄层的离子束溅射技术是由于其相对于其他技术的优势，例如，独立控制许多工艺参数，例如离子束的压力和/或能量以及基板温度。因此，已经通过沉积单层Al研究了各种溅射参数的依赖性，例如：（i）溅射压力和/或沉积速率以及（ii）衬底温度对生长的影响。所述变化显示出对沉积的Al层的结构参数的一些有趣的依赖性，这已经根据薄膜生长和成核理论被理解。 （c）2005 Elsevier B.V.保留所有权利。

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