机译:氮氧化硅薄膜的XRR和GISAXS研究
Rudjer Boskovic Inst, HR-10000 Zagreb, Croatia;
Univ Milan, Milan, Italy;
Sincrotrone Trieste, Basovizza, TS, Italy;
silicon oxynitride films; X-ray reflectivity; small-angle X-ray scattering; REFLECTIVITY; OXIDE;
机译:氮化硅和氮氧化硅中间层对硅上五氧化钽薄膜性能的影响:X射线光电子能谱,X射线反射率和电容电压研究
机译:氮氧化硅和氧氮化ha薄膜上的光电子的有效衰减长度
机译:衬底形态对薄膜生长的影响:GISAXS研究
机译:氢化非晶硅碳氧化物(a-SiOC:H)膜的XRR和SAXS研究
机译:光电致发光氧膜中发光机理的表征
机译:富硅氮氧化物薄膜中敏化Er3 +发光的温度依赖性
机译:等离子体增强化学气相沉积沉积氮化硅和氮氧化硅薄膜的材料结构和机械性能