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プラズマ技術概論

机译：等离子技术概述

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摘要

プラズマは電離気体の総称であり，1928年に ラングミュア（I. Langmuir)によって名づけられ た.太陽や星間ガスなどがプラズマ状態であり， 宇宙の質量の99%以上を構成している.すなわ ち，万物の基本的なエネルギーといっても過言で はない.また，身近なところでは，物質の三態で ある固体，液体，気体に加えて，加熱などによっ てさらに大きなエネルギーを与えて，気体などが 電離するとプラズマ状態となる.したがって，プ ラズマは第四の状態とも呼ばれている.プラズマ の中では，原子や分子の一部が電離し，マイナス の電気を帯びた電子や負イオンと正の電荷を帯び た正イオンが同数存在している.その電気的に中 性を保った集団をプラズマと定義している.%Plasma is the most important science and technology to contribute to almost all industries. Especially, the low temperature plasma technologies have been progressed by the development of semiconductor manufacturing with the innovation. They have been leading the cutting edge technologies. Recently, the low temperature atmospheric pressure plasma has been developed and opened the new avenue not only in the surface finishing of parts of automobiles but also in the medicine and agriculture fields by the irradiation of plasma to the cells and organism. In this article, the plasma science and technology are reviewed.
机译：等离子体是离子化气体的总称，由I. Langmuir于1928年命名。太阳和星际气体处于等离子体状态，占宇宙质量的99％以上。毫不夸张地说，这是万物的基本能量，在熟悉的领域中，除了物质的三种状态：固体，液体和气体外，加热还提供了更大的能量。 ，等离子在气体等被电离时成为等离子体状态，因此，等离子体也称为第四状态，在等离子体中，一些原子和分子被电离，带负电的电子和带负电的电子。带正电的阳离子数量和带正电的离子数量相同，电中性基团定义为等离子体。％等离子体是为几乎所有行业做出贡献的最重要的科学技术尤其是低温等离子技术随着半导体制造技术的创新而发展，并一直引领着最前沿的技术，近来，低温大气压等离子技术的发展不仅在世界范围内开辟了新的道路。通过对细胞和生物体进行等离子体辐照，对汽车零件以及医学和农业领域的零件进行表面处理。本文对等离子体的科学技术进行了综述。

著录项

  • 来源
    《自動車技術》 |2018年第6期|12-17|共6页
  • 作者

    堀　勝;

  • 作者单位

    名古屋大学未来社会創造機構(464 -8603名古屋市千種区不老町);

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
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