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The importance of ions in low pressure PECVD plasmas

机译：离子在低压PECVD等离子体中的重要性

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Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) can be used to fabricate surfaces with a wide range of physical and chemical properties and are used in a variety of applications. Despite this, the mechanisms by which PECVD films grow are not well understood. Moreover, the species which contribute to film growth can be considered quite differently depending on the process. Particularly for functionalized plasma polymer films, the growth mechanisms are considered with respect to the chemistry of the depositing species, ignoring the physics of plasmas. Here we analyse the role ions play in the deposition of three common classes of depositing plasmas, and how these closely related fields treat ions very differently.
机译：等离子体增强化学气相沉积（PECVD）可用于制造具有多种物理和化学性质的表面，并用于各种应用中。尽管如此，人们对PECVD膜生长的机理还不甚了解。此外，根据工艺的不同，可以认为有助于薄膜生长的物质也不同。特别是对于功能化的等离子聚合物薄膜，考虑到沉积物质的化学性质而考虑了生长机理，而忽略了等离子体的物理性质。在这里，我们分析了离子在三种常见的沉积等离子体的沉积中所起的作用，以及这些密切相关的字段如何对离子进行非常不同的处理。

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