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【24h】

High-power GaN MESFET on sapphire substrate

机译:蓝宝石衬底上的高功率GaN MESFET

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摘要

The first power results of GaN MESFET achieved at 2 GHz are presented. A power density of 2.2 W/mm has been obtained with an associated power added efficiency of 27% at V/sub ds/=30 V and V/sub gs/=-2 V. These results represent a significant improvement over similar MESFET's or HFET's grown on GaAs or InP substrates.
机译:给出了在2 GHz下获得的GaN MESFET的首个功率结果。在V / sub ds / = 30 V和V / sub gs / =-2 V时,获得了2.2 W / mm的功率密度和27%的相关功率附加效率。这些结果表明,与类似的MESFET或HFET在GaAs或InP衬底上生长。

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