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【24h】

Reducing dislocations of Al-rich AlGaN by combining A1N buffer and AlN/Al_(0.8)Ga_(0.2)N superlattices

机译:通过结合AlN缓冲层和AlN / Al_(0.8)Ga_(0.2)N超晶格减少富AlAlGaN的位错

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摘要

Structural and optical properties of Al_(0.69)Ga_(0.31)N films are greatly improved by combining special-designed AlN buffer and AlN/ AlGaN superlattices (SLs) grown by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition (LP-MOCVD). The optimized A1N buff
机译:通过结合特殊设计的AlN缓冲液和通过低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)生长的AlN / AlGaN超晶格(SLs),可以极大地改善Al_(0.69)Ga_(0.31)N膜的结构和光学性能。优化的A1N抛光

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