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机译:通过结合AlN缓冲层和AlN / Al_(0.8)Ga_(0.2)N超晶格减少富AlAlGaN的位错
Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, P.O. Box 603, Beijing 100080, PR China;
A1. Cross-sectional TEM; A3. A1N/AlGaN SLs; A3. Al_xGa_(1-x)N; A3. MOCVD;
机译:具有GaAs / AlGaAs超晶格缓冲层的Al_(0.2)Ga_(0.8)As / In_(0.22)Ga_(0.78)As伪非晶双异质结调制掺杂场效应晶体管的温度相关特性
机译:6H-SiC晶片中的畴结构及其对在AlN和Al_(0.2)Ga_(0.8)N缓冲层上生长的GaN膜的微观结构的影响
机译:费米能级在Al_(0.2)Ga_(0.8)N表面上的位置以及在有和没有AIN层的Al_(0.2)Ga_(0.8)N / GaN异质结构中的电场分布
机译:GaAs和Al_(0.2)Ga_(0.8)As太阳能电池,带禁带Al_(0.8)Ga_(0.2)As发射极-异质结电池
机译:块状AlN单晶衬底上的富铝AlGaN和AlN生长
机译:(AlN)m /(GaN)n超晶格中MgGaδ掺杂降低高Al含量AlGaN合金中Mg活化能的实验证据
机译:富铝AlGaN / AlN量子阱中以螺丝位错引起的生长螺旋为发射激子的定域中心