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机译:化学溶液沉积制备YBCO涂层导体的单个La_2Zr_2O_7缓冲层的优化
IFW Dresden, P.O. Box 270116, D-01171 Dresden, Germany;
A1. Characterisation; A3. Chemical solution deposition; A3. Pulsed laser deposition; B1. Oxides; B2. Oxide superconducting materials;
机译:用于化学溶液沉积制备YBCO涂层导体的高织构La_2Zr_2O_7缓冲层
机译:高质量的LA_2ZR_2O_7缓冲层的聚合物辅助化学溶液沉积施加到低成本的YBCO涂层导体
机译:通过化学溶液沉积制备用于YBCO涂层导体的新型单缓冲层
机译:YBCO涂层导体化学沉积La_2Zr_2O_7缓冲层的晶粒生长和双轴织构
机译:通过化学溶液沉积为YBCO涂层导体开发缓冲层。
机译:适用于YBCO涂层导体的新型厚厚致密晶格匹配单缓冲层的水溶液化学沉积:制备和表征
机译:适用于YBCO涂层导体的新型,厚且致密的晶格匹配单缓冲层的水溶液化学溶液沉积:制备和表征
机译:用于YBCO涂层导体的双轴织构金属基板上的溶液基缓冲层的外延生长