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机译:锑对金属有机化学气相沉积法生长InAs / Sb:GaAs(l 00)量子点密度的影响
Nanoelectronics Collaborative Research Center and Laboratory for Integrated Micro Mechatronic Systems/Centre National de la Recherche Scientifique (UMI 2820)—IIS, Institute of Industrial Science, University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-850;
A1. nanostructure; A3. metalorganic chemical-vapor deposition; B2. semiconducting Ⅲ-Ⅴ material; B2. semiconducting indium compound;
机译:锑对金属有机化学气相沉积法生长InAs / Sb:GaAs(100)量子点密度的影响
机译:金属有机化学气相沉积法生长的InAs / GaAs自组装量子点激光器-生长后退火对堆叠的InAs量子点的影响
机译:通过金属有机化学气相沉积法直接在GaAs基质中生长的1.31μmInGaAs量子点发光二极管
机译:1.28 / spl mu / m InAs / GaAs量子点激光器,具有通过金属有机化学气相沉积法在低温下生长的AlGaAs包覆层
机译:用于太阳能电池的高质量InAs / GaAsSb量子点的外延生长。
机译:通过使用金属有机化学气相沉积法简单地改变V / III比可实现宽范围可调密度的InAs / GaAs量子点
机译:间隙应变补偿层对金属 - 有机化学气相沉积生长的快速热退火indaAs / GaAs量子点红外光电探测器的影响
机译:通过金属有机化学气相沉积在Gaassubstrates上生长的Inas(0.3)sb(0.7)层中载流子传输的详细分析