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首页> 外文期刊>Journal of Crystal Growth >Etch pit study of different crystallographic faces of L-arginine hydrobromice monohydrate (LAHBr) in some organic acids
【24h】

Etch pit study of different crystallographic faces of L-arginine hydrobromice monohydrate (LAHBr) in some organic acids

机译：某些有机酸中L-精氨酸氢溴酸盐一水合物（LAHBr）不同晶体面的腐蚀坑研究

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Etching characteristics of (1 0 0), (0 1 0), (0 0 1), and (1 1 0) surfaces of an important nonlinear crystal `L-arginine hydrobromide monohydratre' etched in organic acids have been investigated. It has been found that FeCl_3 added to propionic aicd reduces the tangential etch rate of (1 0 0) and (0 0 1) surfaces. Fast etchants could produce etch pits only on `F' faces, i.e. (1 0 0), (0 0 1) but they have no effect on `S' face, i.e. (0 1 0).
机译：研究了在有机酸中腐蚀的重要非线性晶体“ L-精氨酸氢溴酸盐一水合物”的（1 0 0），（0 1 0），（0 0 1）和（1 1 0）表面的蚀刻特性。已经发现添加到丙酸中的FeCl 3降低了（1 0 0）和（0 0 1）表面的切向蚀刻速率。快速蚀刻剂只能在“ F”面（即（1 0 0），（0 0 1））上产生蚀刻坑，但对“ S”面（即（0 1 0））没有影响。

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