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机译:磨料性质对化学机械抛光中掺氮的Ge_2sb_2te_5对Sio_2薄膜抛光速率选择性的影响
机译:pH和磨料浓度对化学机械抛光中非晶Ge_2Sb_2Te_5薄膜抛光速率的影响
机译:基体温度对化学机械抛光过程中Ge_2Sb_2Te_5薄膜表面性能的影响
机译:碱剂对化学机械抛光中掺氮Ge2Sb2Te5薄膜抛光速率的影响
机译:磨料性能对SiO {Sub} 2化学机械抛光中材料去除率和表面光洁度的影响
机译:化学机械抛光过程中可调节的二氧化硅,氮化硅和多晶硅膜的去除率。
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:基于物理和数据驱动模型的材料去除速率预测评估化学机械抛光