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机译:特定波长的反射:极端紫外线光化掩模检查研究十年
Lawrence Berkeley National Laboratory, Cyclotron Road, Berkeley, California 94720;
Lawrence Berkeley National Laboratory, Cyclotron Road, Berkeley, California 94720;
机译:宽带紫外线照射下光化检查表征极端紫外线光刻掩模缺陷
机译:具有掩埋缺陷和吸收剂特征的极紫外掩模的快速三维模拟和光化检查的比较
机译:超过0.25数值孔径的光化极端紫外光罩检查
机译:使用极紫外显微镜进行光化掩模检查
机译:台式,全视野,光化显微镜,用于极端紫外线光刻掩模表征。
机译:长期窄带紫外线B光疗后牛皮癣患者的弥漫性浅表性光化性角化病
机译:B4C覆盖层对极端紫外线掩模的影响对使用投影电子显微镜图案化掩模检查的灵敏度