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机译:退火条件对室温下直流磁控溅射制备的BaCe_(1_x)Y_xO_(3_α)涂层结构的影响
LERMPS-UTBM, Site de Montbeliard, F.90010 Belfort Cedex, France;
LERMPS-UTBM, Site de Montbeliard, F.90010 Belfort Cedex, France;
LERMPS-UTBM, Site de Montbeliard, F.90010 Belfort Cedex, France;
proton conductor ceramics; reactive magnetron sputtering; BaCeO_3;
机译:退火温度对直流磁控溅射沉积TiO2薄膜组织和性能的影响
机译:氧分压和沉积后退火对室温磁控溅射ZnO薄膜结构和光学性能的影响
机译:通过HIPIMS和DC磁控溅射的组合沉积的Ti-Cu涂层:真空退火对Cu扩散,微观结构和耐腐蚀的作用
机译:反应磁控溅射制备BaCe_(0.8)Zr_(0.1)Y_(0.1)O_(3-α)薄膜
机译:通过磁控溅射合成的二硼化钛/碳化钛和氧化钛/氧化铝多层涂层的结构,机械,摩擦学性能和高温稳定性。
机译:放电功率和热处理对射频磁控溅射沉积磷酸钙涂层的影响
机译:根据退火条件,DC磁控溅射制备的NiCr薄膜的微结构和表面特性