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Study of substrate temperature effects on structural, optical, mechanical and opto-thermal properties of NiO sprayed semiconductor thin films

机译：研究衬底温度对NiO喷涂半导体薄膜的结构，光学，机械和光热性能的影响

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摘要

Crystalline nickel oxide (NiO) thin films were obtained by simple spray pyrolysis technique using nickel chloride hexahydrate solutions onto glass substrates at different temperatures of 350, 400 and 450 ℃. Structures of the as-deposited NiO thin films have been investigated by X-ray diffraction (XRD) and the surface topography was performed by the atomic force microscope (AFM).The results show that NiO films crystallize in cubic phase structure with a preferred orientation of the crystallites along (111) direction. Furthermore, a conjoint new and original set of opto-thermal and hydrophobic investigations has been carried out and discussed relatively to the classically investigated structural, optical, mechanical and thermal characteristics, in order to compare optimized geometrical and crystalline structures.
机译：采用六水合氯化镍溶液通过简单的喷雾热解技术，在350、400和450℃的不同温度下，将结晶的氧化镍（NiO）薄膜沉积在玻璃基板上。通过X射线衍射（XRD）研究了沉积后的NiO薄膜的结构，并通过原子力显微镜（AFM）对其表面形貌进行了研究，结果表明NiO薄膜以立方相结构结晶并具有较好的取向性沿（111）方向的微晶。此外，已经进行了一系列新的和原始的光热和疏水性研究，并相对于经典研究的结构，光学，机械和热学特性进行了讨论，以比较优化的几何结构和晶体结构。

著录项

  • 来源
    《Materials Science and Engineering》 |2014年第10期|72-77|共6页
  • 作者

    A. Boukhachem; R. Boughalmi; M. Karyaoui; A. Mhamdi; R. Chtourou; K. Boubaker; M. Amlouk;

  • 作者单位

    Unite de physique des dispositifs a semi-conducteurs, Faculte des sciences de Tunis, Tunis El Manar University, 2092 Tunis, Tunisia;

    Unite de physique des dispositifs a semi-conducteurs, Faculte des sciences de Tunis, Tunis El Manar University, 2092 Tunis, Tunisia;

    Laboratoire de Photovoltaieque, Centre de Recherches et des Technologies de l'Energie, BP. 95, Hammam-Lif 2050, Tunisia;

    Laboratoire de Photovoltaieque, Centre de Recherches et des Technologies de l'Energie, BP. 95, Hammam-Lif 2050, Tunisia;

    Laboratoire de Photovoltaieque, Centre de Recherches et des Technologies de l'Energie, BP. 95, Hammam-Lif 2050, Tunisia;

    Unite de physique des dispositifs a semi-conducteurs, Faculte des sciences de Tunis, Tunis El Manar University, 2092 Tunis, Tunisia;

    Unite de physique des dispositifs a semi-conducteurs, Faculte des sciences de Tunis, Tunis El Manar University, 2092 Tunis, Tunisia;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    XRD; AFM; Thin films; NiO;

    机译：XRD;原子力显微镜薄膜;氧化镍;

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