Diffuse-interface model for nanopatterning induced by self-sustained ion-etch masking

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• 来源
  《Physical review》 |2010年第16期|161401.1-161401.4|共4页
• 作者

  S. Le Roy; E. Sondergard; I. S. Nerbo; M. Kildemo; M. Plapp;

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• 作者单位

  Surface du Verre et Interfaces, UMR 125 CNRS/Saint-Gobain, 93303 Aubervilliers, France;

  rnSurface du Verre et Interfaces, UMR 125 CNRS/Saint-Gobain, 93303 Aubervilliers, France;

  rnPhysics Department, Norwegian University of Science and Technology (NTNU), NO-7491 Trondheim, Norway;

  rnPhysics Department, Norwegian University of Science and Technology (NTNU), NO-7491 Trondheim, Norway;

  rnPhysique de la Matiere Condensee, Ecole Polytechnique, CNRS, 91128 Palaiseau, France;

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• 收录信息
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• 正文语种 eng
• 中图分类
• 关键词

  atomic, molecular, and ion beam impact and interactions with surfaces; nanoscale pattern formation;

  机译：原子;分子和离子束的撞击以及与表面的相互作用;纳米图案形成;