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纳米粒子单层膜作掩模的纳米刻蚀技术研究

         

摘要

采用LB(langmuir-blodgett)排布技术制备了大面积高密度的FePt纳米粒子单层膜,利用纳米粒子单层膜作为掩模,通过反应离子刻蚀技术进行了纳米刻蚀研究.实验结果表明,采用纳米粒子单层膜作为掩模,通过控制反应离子刻蚀条件可以实现纳米级(小于50nm)的纳米点阵和纳米柱的刻蚀.

著录项

  • 来源
    《中国机械工程》 |2005年第z1期|391-393|共3页
  • 作者单位

    上海交通大学,微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030;

    保定天河电子技术有限公司,保定,071051;

    上海交通大学,微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030;

    上海交通大学,微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030;

    上海交通大学,微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030;

    上海交通大学,微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光刻、掩膜;
  • 关键词

    LB膜; 纳米粒子; 掩模; 纳米刻蚀;

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