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島津プラズマ応用成膜装置

机译：Shimadzu等离子应用膜沉积系统

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摘要

これまで約35年にわたって，産業機械事業部が開発·製造してきたプラズマ応用成膜装置を紹介する。装置としては，グロー放電を利用したプラズマCYD(Chemical Vapor Deposition)装置や磁場とマイクロ波を利用したECR-CVD装置，ECRスパッタ装置，さらにマイクロ波を応用した表面波プラズマ装置，独自のマルチカソードホロー放電プラズマCVD装置，そして，アーク放電プラズマを利用したカソーディックアーク成膜装置等に利用されている各種プラズマの開発経緯，発生原理とその応用分野を中心に紹介する。%This paper discusses thin film deposition systems using plasma,which the Industrial Machinery Division at Shimadzu has developed and manufactured for nearly 35 years.We describe the principle of the plasma,plasma generation,application fields and the development background for various plasma systems including a plasma CVD system using glow discharge,an ECR-CVD system using a magnetic field and microwaves,an ECR sputtering system,a surface wave plasma system using microwaves,a unique multi-hollow cathode plasma CVD system,and also a cathodic arc film deposition system utilizing arc discharge plasma.
机译：我们想介绍由工业机械部开发和制造了约35年的等离子施加膜沉积设备。作为设备，使用辉光放电的等离子CYD（化学气相沉积）设备，利用磁场和微波的ECR-CVD设备，ECR溅射设备，利用微波的表面波等离子体设备以及原始的多阴极空心介绍了放电等离子体CVD设备和使用电弧放电等离子体的阴极电弧成膜设备中使用的各种等离子体的发展过程，产生原理和应用领域。 ％本文讨论了由Shimadzu工业机械部开发和制造了近35年的使用等离子体的薄膜沉积系统，我们描述了等离子体的原理，等离子体的产生，应用领域以及各种等离子体系统的开发背景，包括使用辉光放电的等离子体CVD系统，使用磁场和微波的ECR-CVD系统，ECR溅射系统，使用微波的表面波等离子体系统，独特的多空心阴极等离子体CVD系统以及阴极电弧膜沉积系统利用电弧放电等离子体。

著录项

  • 来源
    《島津評論》 |2016年第4期|117-122|共6页
  • 作者

    生地　望;

  • 作者单位

    産業機械事業部　事業開発部;

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  • 正文语种 jpn
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