掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献检索
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
电子学、通信
>
Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls
Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
相关中文期刊
电子机械工程
无线电与电视
电子器件
电视技术
磁性材料及器件
微细加工技术
电子元件与材料
中国无线电
电子对抗
数码世界
更多>>
相关外文期刊
ntz
電子情報通信学会論文誌. A, 基礎.境界
Electronic Design
桂林电子工业学院学报
Public Network Europe
IEEE Transactions on Signal Processing
Electron Technology
Deutsche Telekom Unterrichtsblaetter
Broadband Business Forecast
Intermedia
更多>>
相关中文会议
第四届中国通信光电线缆企业家高峰论坛
第二十四届中国化学与物理电源学术会议
第十六届全国中波技术交流会
2011 National Teaching Seminar on Cryptography and Information Security(NTS-CIS2011)(2011年全国密码学与信息安全教学研讨会)
全国第十五届信号与信息处理、第九届DSP应用技术联合学术会议
第三届四川省光电技术学术交流会
第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议
中国通信学会2015年通信线路学术年会
2010年全国压电和声波理论及器件技术研讨会
第十七届全国信号处理学术年会
更多>>
相关外文会议
Target-in-the-Loop: Atmospheric Tracking, Imaging, and Compensation
IFIP TC10 WG10.5 Tenth International Conference on Very Large Scale Integration (VLSI'99) December 1-4, 1999, Lisboa, Portugal
2018 IEEE International Symposium on the Physical and Failure Analysis of Integrated Circuits
Surface Engineering 2004 -Fundamentals and Applications
International Conference on Information and Communications Security(ICICS 2005); 20051210-13; Beijing(CN)
Modeling, Signal Processing, and Control Mar 3-6, 2003 San Diego, California, USA
Joint IAPR International Workshops on SSPR(Structural and Syntactic Pattern Recognition) 2000 and SPR(Statistical Techniques in Pattern Recognition), 8th 3rd, Aug 30 - Sep 1, 2000, University of Alicante, Spain
Broadband Access Communication Technologies
Antenna Measurement Techniques Association 17th Annual Meeting & Symposium November 13-17, 1995 The Williamsburg Lodge
IPC Printed Circuits Expo, Apex, and the Designers Summit; 20070220-22; Los Angeles,CA(US)
更多>>
热门会议
Meeting of the internet engineering task force;IETF
日本建築学会;日本建築学会大会
日本建築学会(Architectural Institute of Japan);日本建築学会年度大会
日本建築学会学術講演会;日本建築学会
日本建築学会2010年度大会(北陸)
Korean Society of Noise & Vibration Control;Institute of Noise Control Engineering;International congress and exposition on noise control engineering;ASME Noise Control & Acoustics Division
土木学会;土木学会全国大会年次学術講演会
応用物理学会秋季学術講演会;応用物理学会
総合大会;電子情報通信学会
The 4th International Conference on Wireless Communications, Networking and Mobile Computing(第四届IEEE无线通信、网络技术及移动计算国际会议)论文集
更多>>
最新会议
2011 IEEE Cool Chips XIV
International workshop on Java technologies for real-time and embedded systems
Supercomputing '88. [Vol.1]. Proceedings.
RILEM Proceedings PRO 40; International RILEM Conference on the Use of Recycled Materials in Buildings and Structures vol.1; 20041108-11; Barcelona(ES)
International Workshop on Hybrid Metaheuristics(HM 2007); 20071008-09; Dortmund(DE)
The 57th ARFTG(Automatic RF Techniques Group) Conference, May 25, 2001, Phoenix, AZ
Real Time Systems Symposium, 1989., Proceedings.
Conference on Chemical and Biological Sensing V; 20040412-20040413; Orlando,FL; US
American Filtration and Separations Society conference
Combined structures congress;North American steel construction conference;NASCC
更多>>
全选(
0
)
清除
导出
1.
Monitoring of submicrometer linewidths using diffraction gratings
机译:
使用衍射光栅监控亚微米线宽
作者:
Phillip H. Chapados
;
Jr.
;
Texas Instruments Inc.
;
Plano
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
2.
Modeling the properties of PECVD silicon dioxide films using neural networks
机译:
使用神经网络对PECVD二氧化硅膜的特性进行建模
作者:
Seung-Soo Han
;
Georgia Institute of Technology
;
Atlanta
;
GA
;
USA
;
Martin Ceiler
;
Georgia Institute of Technology
;
Atlanta
;
GA
;
USA
;
Sue Ann Bidstrup
;
Georgia Institute of Technology
;
Atlanta
;
GA
;
USA
;
Paul Kohl
;
Georgia Institute of Technology
;
Atlanta
;
G
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
3.
Low-thermal-budget MOS gate stack formation using a cluster tool rapid-thermal-processing module
机译:
使用集群工具快速热处理模块的低热预算MOS栅极堆叠形成
作者:
A.M. Bayoumi
;
North Carolina State Univ.
;
Raleigh
;
NC
;
USA
;
J.Montgomery
;
North Carolina State Univ.
;
Raleigh
;
NC
;
USA
;
R.T. Kuehn
;
North Carolina State Univ.
;
Raleigh
;
NC
;
USA
;
F.S. Johnson
;
North Carolina State Univ.
;
Raleigh
;
NC
;
USA
;
John R. Hauser
;
N
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
4.
Manufacturing integration of real-time laser interferometry to isotropically etch silicon oxide films for contacts and vias
机译:
实时激光干涉测量的制造集成,以各向同性地蚀刻接触点和过孔的氧化硅膜
作者:
Jake Pope
;
Jr.
;
Motorola
;
Inc.
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Robert Woodburn
;
Motorola
;
Inc.
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
J.Watkins
;
Motorola
;
Inc.
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
Roger B. Lachenbruch
;
Matrix Integrated Systems
;
Richmond
;
CA
;
USA
;
Gregory C. Viloria
;
SC Technology
;
Inc.
;
Richmond
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
5.
Integrated system of optical sensors for plasma monitoring and plasma process control
机译:
用于等离子体监测和等离子体过程控制的光学传感器集成系统
作者:
Harold M. Anderson
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
Michael P. Splichal
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
6.
Fabrication of sub-40-nm p-n junctions for 0.18-um MOS deviceapplications using a cluster-tool-compatible, nanosecond thermal dopingtechnique,
机译:
使用与群集工具兼容的纳秒级热掺杂技术,制造用于0.18um MOS器件的亚40nm p-n结,
作者:
Kurt H. Weiner
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Anthony M. McCarthy
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
7.
Emissivity compensated radiance-contrast-tracking pyrometry for semiconductor processing
机译:
用于半导体加工的发射率补偿的辐射度对比跟踪高温法
作者:
Michael E. Adel
;
CI Systems Ltd.
;
Agoura Hills
;
CA
;
USA
;
Shmuel Mangan
;
CI Systems Ltd.
;
Migdal Haemek
;
Israel
;
Yaron Ish-Shalom
;
CI Systems Ltd.
;
Migdal Haemek
;
Israel.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
8.
Characterization of organometallic polymers generated post-RIE/ECR etching followed by in-situ microwave ashing
机译:
RIE / ECR蚀刻后产生的有机金属聚合物的表征,然后进行原位微波灰化
作者:
Debbie Switalski
;
Advanced Chemical Systems International
;
Inc.
;
Milpitas
;
CA
;
USA
;
Randy Solis
;
VLSI Technology
;
Inc.
;
San Antonio
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
9.
Al-Cu alloy etching using in-reactor aluminum chloride formation in static magnetron triode reactive ion etching
机译:
静态磁控三极管反应离子刻蚀中利用反应器内氯化铝形成Al-Cu合金的刻蚀
作者:
Masaaki Sato
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
10.
Variable energy neutral beam design and kinetic energy etching
机译:
可变能量中性束设计和动能蚀刻
作者:
Lee Chen
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
11.
Ultrashallow p+-n junctions formed by diffusion from an RTCVD-deposited B:Ge layer
机译:
通过从RTCVD沉积的B:Ge层扩散而形成的超浅p + -n结
作者:
Byung G. Park
;
ATT Bell Labs.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
Clifford A. King
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
D.J. Eaglesham
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
T.W. Sorsch
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
B.Weir
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
12.
Sub-0.5-um polysilicon etching on a MERIE system: a case study in manufacturing
机译:
MERIE系统上0.5um以下的多晶硅蚀刻:制造中的案例研究
作者:
Steve W. Swan
;
Digital Equipment Corp.
;
South Portland
;
ME
;
USA
;
Graham W. Hills
;
Applied Materials
;
Inc.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
13.
Software integration of in-situ spectroscopic ellipsometry
机译:
原位光谱椭偏仪的软件集成
作者:
Sonny Maung
;
Texas Instruments Inc.
;
Plano
;
TX
;
USA
;
Steven A. Henck
;
Texas Instruments Inc.
;
Plano
;
TX
;
USA
;
Walter M. Duncan
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
Doug Mahlum
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
Chyi Sheng
;
Texas Instruments In
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
14.
Run-to-run control framework for VLSI manufacturing
机译:
VLSI制造的运行到运行控制框架
作者:
James R. Moyne
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA
;
Hossein Etemad
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA
;
Michael E. Elta
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
15.
Real-time image analysis and control of the solid/liquid interface during zone-melting recrystallization of thin films
机译:
薄膜区域熔融再结晶过程中固/液界面的实时图像分析和控制
作者:
Peter Y. Wong
;
Tufts Univ.
;
Medford
;
MA
;
USA
;
Ioannis N. Miaoulis
;
Tufts Univ.
;
Medford
;
MA
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
16.
Recent developments in RT-CVD technology for ULSI material processing and device fabrication: an overview
机译:
用于ULSI材料处理和器件制造的RT-CVD技术的最新进展:概述
作者:
G.W. Yoon
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
J.H. Kim
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Unnikrishnan Sreenath
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Dim-Lee Kwong
;
Univ. of Texas/Austin
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
17.
Reactive ion etching of Al alloy and silicon dioxide films in a rotating magnetic field
机译:
在旋转磁场中对铝合金和二氧化硅膜的反应离子刻蚀
作者:
Masafumi Tanabe
;
ULVAC Japan
;
Ltd.
;
Chigasaki
;
Kanagawa
;
Japan
;
Akio Matsuda
;
ULVAC Japan
;
Ltd.
;
Chigasaki
;
Kanagawa
;
Japan
;
Takeshi Sunada
;
ULVAC Japan
;
Ltd.
;
Chigasaki
;
Kanagawa
;
Japan
;
Taro Nomura
;
ULVAC Japan
;
Ltd.
;
Chigasaki
;
Kanagawa
;
Japan
;
Hideki
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
18.
Rapid themal processing using in-situ wafer thermal expansion measurement for temperature control
机译:
使用原位晶片热膨胀测量进行温度快速控制
作者:
Bruce W. Peuse
;
Peak Systems
;
Inc.
;
San Carlos
;
CA
;
USA
;
Allan Rosekrans
;
Peak Systems
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
19.
Process modification to reduce damage to reactive ion etched surfaces
机译:
修改工艺以减少对反应性离子蚀刻表面的损坏
作者:
Durga Misra
;
New Jersey Institute of Technology
;
Newark
;
NJ
;
USA
;
O.W. Purbo
;
Institute of Technology Bandung
;
Waterloo
;
Ontario
;
Canada
;
C.R. Selvakumar
;
Univ. of Waterloo
;
Waterloo
;
Ontario
;
Canada.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
20.
Practical use of an in-line vacuum metrology cluster in a minifactory environment
机译:
在线微型计量集群在小型工厂环境中的实际使用
作者:
Steven A. Henck
;
Texas Instruments Inc.
;
Plano
;
TX
;
USA
;
Phillip H. Chapados
;
Jr.
;
Texas Instruments Inc.
;
Plano
;
TX
;
USA
;
Sonny Maung
;
Texas Instruments Inc.
;
Plano
;
TX
;
USA
;
Walter M. Duncan
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
21.
Fabrication of sub-40-nm p-n junctions for 0.18-um MOS device applications using a cluster-tool-compatible nanosecond thermal doping technique
机译:
使用群集工具兼容的纳秒热掺杂技术制造用于0.18um MOS器件的亚40nm p-n结
作者:
Author(s): Kurt H. Weiner Lawrence Livermore National Lab. Livermore CA USA
;
Anthony M. McCarthy Lawrence Livermore National Lab. Livermore CA USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
22.
Manufacturing parameters of large-batch small-batch and single-wafer cluster tools for poly-gate a
机译:
多晶硅浇口的大批量小批量和单晶圆集群工具的制造参数
作者:
M.A. van Driel
;
ASM International NV
;
Bilthoven
;
Netherlands.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
23.
Magnetically enhanced reactive ion etching of silylated resist in O2/Ar mixtures
机译:
磁性增强的O2 / Ar混合物中甲硅烷基化抗蚀剂的反应离子刻蚀
作者:
Myung-Seon Kim
;
Hyundai Semiconductor RD Lab.
;
Ichon-kun
;
Kyungiki-do
;
South Korea
;
Jin-Woong Kim
;
Hyundai Semiconductor RD Lab.
;
Ichon-kun Kyungiki-do
;
South Korea
;
Jun-mo Kim
;
Hyundai Semiconductor RD Lab.
;
Ichon-kun Kyungiki-do
;
South Korea
;
Yeo-Son
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
24.
Influence of adjustment accuracy on the image quality for laser cluster systems of microlithography
机译:
调整精度对微光刻激光群集系统图像质量的影响
作者:
Victor V. Boksha
;
Plasmoteg Engineering Ctr.
;
Cupertino
;
CA
;
USA
;
Anatoly I. Sharendo
;
Plasmoteg Engineering Ctr.
;
Minsk
;
Belarus
;
Vyjachesjav E. Obukhov
;
Plasmoteg Engineering Ctr.
;
Minsk
;
Belarus
;
Eduard I. Tochitsky
;
Plasmoteg Engineering Ctr.
;
Minsk
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
25.
High-density plasma etching: a gate oxide damage study
机译:
高密度等离子体刻蚀:栅氧化层损伤研究
作者:
Calvin Gabriel
;
VLSI Technology
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
26.
High-selectivity magnetically enhanced reactive ion etching of boron nitride films
机译:
氮化硼膜的高选择性磁增强反应离子刻蚀
作者:
Donna R. Cote
;
IBM Technology Products Div.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Son Nguyen
;
IBM Technology Products Div.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Dave Dobuzinsky
;
IBM Technology Products Div.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Cathy Basa
;
IBM Technology Products D
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
27.
First-wafer effect on ellipsometer metrics and spatial etch pattern of polysilicon gate etch
机译:
第一晶圆对椭偏仪指标和多晶硅栅刻蚀空间刻蚀图案的影响
作者:
Stephanie W. Butler
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
Jerry A. Stefani
;
Texas Instruments Inc.
;
Richardson
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
28.
Empirical models in semiconductor processing: optimization and assessment as simulators
机译:
半导体加工中的经验模型:作为模拟器的优化和评估
作者:
Steve W. Lavelle
;
Univ. of Durham
;
Durham
;
United Kingdom
;
David Wood
;
Univ. of Durham
;
Durham
;
United Kingdom
;
A.J. Hydes
;
Defence Research Agency
;
Great Malvern
;
Worcestershire
;
United Kingdom.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
29.
Electrical sensors for monitoring rf plasma sheaths
机译:
用于监控射频等离子体鞘的电传感器
作者:
Mark A. Sobolewski
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
James K. Olthoff
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
30.
Dry patterning of resistive masks and topological structures
机译:
电阻掩膜和拓扑结构的干图
作者:
Victor V. Boksha
;
Plasmoteg Engineering Ctr.
;
Cupertino
;
CA
;
USA
;
Anatoly I. Sharendo
;
Plasmoteg Engineering Ctr.
;
Minsk
;
Belarus
;
Vyjachesjav E. Obukhov
;
Plasmoteg Engineering Ctr.
;
Minsk
;
Belarus
;
Eduard I. Tochitsky
;
Plasmoteg Engineering Ctr.
;
Minsk
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
31.
Comparison of rapid thermal processing and furnace processing for quarter-micrometer CMOS
机译:
四分之一微米CMOS的快速热处理和熔炉处理的比较
作者:
B.El-Kareh
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
A.Ghatalia
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Mark D. Kellam
;
Microelectronics Ctr. of North Carolina
;
Research Triangle Park
;
NC
;
USA
;
P.Maillot
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Carl M. Osburn
;
North Carolina State Univ.
;
Resea
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
32.
Charge-buildup damage to gate oxide
机译:
电荷积累对栅极氧化物的损害
作者:
Calvin Gabriel
;
VLSI Technology
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
33.
Characterization of rapid thermally grown dielectrics by surface charge analysis and atomic force microscopy
机译:
通过表面电荷分析和原子力显微镜表征快速热生长的电介质
作者:
John M. Grant
;
Sharp Microelectronics Technology
;
Inc.
;
Camas
;
WA
;
USA
;
Lynn R. Allen
;
Sharp Microelectronics Technology
;
Inc.
;
Camas
;
WA
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
34.
Benchmarking of temperature measurement and control capability of commercially available rapid thermal processor (RTP) systems
机译:
商用快速热处理器(RTP)系统的温度测量和控制能力基准测试
作者:
Ankineedu Velaga
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Jim Brown
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Don Lindholm
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
35.
Use of an electrochemical sensor for controlling the etching of silicon dioxide films in aqueous HF processing baths
机译:
使用电化学传感器控制水性HF处理浴中二氧化硅膜的蚀刻
作者:
Ronald A. Carpio
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Suresh K. Bhat
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
36.
Real-time feedback control of reactive ion etching
机译:
反应离子刻蚀的实时反馈控制
作者:
Michael E. Elta
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA
;
J.P. Fournier
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA
;
J.S. Freudenberg
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA
;
M.D. Giles
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA
;
Jessy W. Grizzle
;
Univ. of Michigan
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
37.
Generic operational models and factory control
机译:
通用操作模型和工厂控制
作者:
Margeret Pratt
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
38.
Optical emission spectroscopy on the GEC reference cell
机译:
GEC参考电池上的光发射光谱
作者:
Melisa J. Buie
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA
;
Jeremiah T. Pender
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA
;
T.Vincent
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA
;
J.Holloway
;
Univ. of Michigan
;
Ann Arbor
;
MI
;
USA
;
Mary L. Brake
;
Univ. of Michigan
;
Ann Ar
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
39.
On-line optimization of stop-etch time
机译:
在线优化刻蚀时间
作者:
Songling Cao
;
Texas Tech Univ.
;
Lubbock
;
TX
;
USA
;
R.R. Rhinehart
;
Texas Tech Univ.
;
Lubbock
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
40.
Application of RTA to a 0.8-um BiCMOS process,
机译:
RTA在0.8um BiCMOS工艺中的应用
作者:
Robert H. Reuss
;
Motorola Semiconductor Products Sector
;
Northbrook
;
IL
;
USA.
会议名称:
《》
|
1993年
41.
Native oxide removal on Si surface by NF3-added hydrogen plasma downstream treatment
机译:
通过添加NF3的氢等离子体下游处理去除Si表面上的天然氧化物
作者:
Jun J. Kikuchi
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Masao Iga
;
Fujitsu Ltd.
;
Nakahara-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Shuzo Fujimura
;
Fujitsu Ltd.
;
Nakahara-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Hirosi Yano
;
Fujitsu Ltd.
;
Takatu-ku
;
Kawasaki
;
Japan.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
42.
Application of RTA to a 0.8-um BiCMOS process
机译:
RTA在0.8um BiCMOS工艺中的应用
作者:
Author(s): Robert H. Reuss Motorola Semiconductor Products Sector Northbrook IL USA.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
43.
Application of a cluster tool for control of bipolar polysilicon emitter transistor characteristics
机译:
集群工具在控制双极型多晶硅发射极晶体管特性中的应用
作者:
Author(s): Robert H. Reuss Motorola Semiconductor Products Sector Northbrook IL USA
;
Chris J. Werkhoven ASM International NV BJ Bilthoven Netherlands.
会议名称:
《Miroelectronic Processes, Sensors, and Controls》
|
1993年
意见反馈
回到顶部
回到首页