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Modeling aspects in optical metrology III
Modeling aspects in optical metrology III
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1.
Physical optics light propagation through components with measured refractive, diffractive and hybrid surface profiles
机译:
物理光学光通过具有测得的折射,衍射和混合表面轮廓的组件传播
作者:
Hagen Schweitzer
;
Christian Hellmann
;
Frank Wyrowski
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
2.
Rigorous modeling of meander-type metamaterials for sub-lambda imaging
机译:
亚lambda成像的曲折型超材料的严格建模
作者:
P. Schau
;
K. Frenner
;
L. Fu
;
H. Schweizer
;
H. Giessen
;
W. Osten
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
3.
Improved geometry reconstruction and uncertainty evaluation for extreme ultraviolet (EUV) scatterometry based on maximum likelyhood estimation
机译:
基于最大似然估计的改进的几何重构和不确定性评估,用于极紫外(EUV)散射测量
作者:
M.-A. Henn
;
H. Gross
;
F. Scholze
;
C. Elster
;
M. Bär
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
4.
A scattering matrix interpolation from perturbation method: application to scatterometry for profile control
机译:
摄动法的散射矩阵插值:在散射测量中的应用,用于轮廓控制
作者:
Kofi Edee
;
Jean-Pierre Plumey
;
Gérard Granet
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
5.
Gradient reconstruction for the phase recovery from a single interferogram with closed fringes
机译:
梯度重建,用于从具有闭合条纹的单个干涉图中恢复相位
作者:
Jesús Muñoz-Maciel
;
Francisco J. Casillas Rodriguez
;
Miguel Mora González
;
Francisco G. Peña Lecona
;
Victor M. Durán Ramírez
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
6.
The effect of line roughness on the diffraction intensities in angular resolved scatterometry
机译:
线粗糙度对角分辨散射法中衍射强度的影响
作者:
Akiko Kato
;
Frank Scholze
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
7.
Speckle pattern simulations for in-plane displacement measurements
机译:
平面内位移测量的斑点图案模拟
作者:
Yves Salvadé
;
Romain Bonjour
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
8.
Fast virtual shadow projection system as part of a virtual multisensor assistance system
机译:
作为虚拟多传感器辅助系统一部分的快速虚拟阴影投影系统
作者:
Klaus Haskamp
;
Markus Kästner
;
Eduard Reithmeier
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
9.
Modeling of the surface color controlled by Ag nanograin structure
机译:
银纳米颗粒结构控制的表面颜色建模
作者:
Mizue Ebisawa
;
Satoru Hashimoto
;
Teruyoshi Hirano
;
Shuichi Maeda
;
Toshihide Iwanaga
;
Yasuhiro Mizutani
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
10.
New high compression method for digital hologram recorded in microscope configuration
机译:
在显微镜配置中记录数字全息图的新高压缩方法
作者:
Pasquale Memmolo
;
Melania Paturzo
;
Anna Pelagotti
;
rea Finizio
;
Pietro Ferraro
;
Bahram Javidi
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
11.
Analysis and application of refractive variable-focus lenses in optical microscopy
机译:
屈光变焦镜头在光学显微镜中的分析与应用
作者:
Pavel Novak
;
Jiri Novak
;
Antonin Miks
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
12.
Inverse calculation of position and tilt errors of optical components from wavefront data
机译:
根据波前数据反演光学组件的位置和倾斜误差
作者:
H. Gilbergs
;
N. Wengert
;
K. Frenner
;
P. Eberhard
;
W. Osten
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
13.
Analysis of servomechanisms for high-density optical disks with the vectorial and scalar diffraction theory
机译:
基于矢量和标量衍射理论的高密度光盘伺服机构分析
作者:
S. Yoshida
;
S. Horiuchi
;
M. Yamamoto
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
14.
Deconvolution of non-zero solid angles effect in Bidirectional Scattering Distribution Function measurements
机译:
双向散射分布函数测量中非零立体角效应的反卷积
作者:
A. Ferrero
;
J. Campos
;
A. M. Rabal
;
A. Pons
;
M. L. Hernanz
;
A. Corrons
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
15.
Full vectorial finite element method for acoustic mode calculation of suspended core fiber
机译:
悬浮芯纤维声模计算的全矢量有限元方法
作者:
Soodabeh Nouri Jouybari
;
Hamid Latifi
;
Fahimeh Salehpoor
;
Faramarz Farahi
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
16.
Modeling the ultrafast optical response of a multilayered sample subject to transient distributed perturbations
机译:
模拟多层样品在瞬态分布扰动下的超快光学响应
作者:
Denis Mounier
;
Jean-Marc Breteau
;
Pascal Picart
;
Vitalyi Gusev
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
17.
Optimization of scanning and command functions of galvanometer-based scanners
机译:
优化基于振镜的扫描仪的扫描和命令功能
作者:
V.-F. Duma
;
C. Mnerie
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
18.
Opto-mechanical modelling and experimental approach to the measurement of aerospace materials using shearography and thermal loading
机译:
利用剪切成像和热负荷测量航空材料的光机械建模和实验方法
作者:
Eduardo Corso Krutul
;
Roger M. Groves
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
19.
Depth sensitive Fourier-Scatterometry for the characterization of sub-100 nm periodic structures
机译:
深度敏感的傅里叶散射法用于表征100 nm以下的周期性结构
作者:
V. Ferreras Paz
;
S. Peterhänsel
;
Ka. Frenner
;
W. Osten
;
A. Ovsianikov
;
K. Obata
;
B. Chichkov
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
20.
Analysis of spectral-shadowing crosstalk in a quasi-distributed fibre sensor interrogated by optical frequency-domain reflectometer
机译:
光频域反射仪对准分布光纤传感器光谱屏蔽串扰的分析
作者:
Kivilcim Yüksel
;
Véronique Moeyaert
;
Patrice Mégret
;
Marc Wuilpart
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
21.
Modeling of profilometry with laser focus sensors
机译:
用激光聚焦传感器对轮廓测量进行建模
作者:
Jörg Bischoff
;
Eberhard Manske
;
Henner Baitinger
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
22.
Fast online inverse scattering with Reduced Basis Method (RBM) for a 3D phase grating with specific line roughness
机译:
具有特定线粗糙度的3D相位光栅的快速在线逆散射,采用简化基方法(RBM)
作者:
Bernd H. Kleemann
;
Julian Kurz
;
Jochen Hetzler
;
Jan Pomplun
;
Sven Burger
;
Lin Zschiedrich
;
Frank Schmidt
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
23.
Full-scale simulation of angle-resolved focused-beam scatterometry applied to aperiodic isolated features: model validity analysis and numerical results
机译:
应用于非周期性孤立特征的角度分辨聚焦束散射测量的全面模拟:模型有效性分析和数值结果
作者:
S. E. Kozik
;
A. G. Smirnov
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
24.
The promise of metamaterials for new applications in optics
机译:
超材料在光学新应用中的前景
作者:
H. Schweizer
;
L. Fu
;
N. Liu
;
T. Weiss
;
P. Schau
;
K. Frenner
;
W. Osten
;
H. Giessen
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
25.
Reduced basis method for real-time inverse scatterometry
机译:
实时反散射法的简化基方法
作者:
Jan Pomplun
;
Sven Burger
;
Lin Zschiedrich
;
Frank Schmidt
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
26.
Near-field introscopy of 2D nonhomogeneous left-handed material slab
机译:
二维非均质左手材料平板的近场内窥镜检查
作者:
Mikhail Y. Barabanenkov
;
Yuri N. Barabanenkov
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
27.
Front Matter: Volume 8083
机译:
前题:第8083卷
作者:
SPIE
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
28.
Simulating photonic structures in layered geometries by the Multiple Multipole Program
机译:
通过多重多极子程序模拟分层几何结构中的光子结构
作者:
Aytac Alparslan
;
Christian Hafner
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
29.
Solution of the inverse problem of diffraction from low-dimensional periodically arranged nanocrystals
机译:
低维周期性排列纳米晶体衍射反问题的解决
作者:
Leonid I. Goray
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
30.
Physical marker based stitching process of circular and non-circular interferograms
机译:
基于物理标记的圆形和非圆形干涉图拼接过程
作者:
Roland Maurer
;
Florian Schneider
;
Christian Vogt
;
Markus Schinhaerl
;
Peter Sperber
;
Rolf Rascher
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
31.
Ronchi test for refractive optics off-axis using a nodal bench
机译:
Ronchi使用节点台测试偏光轴偏光
作者:
F. S. Granados-Agustin
;
M. E. Percino Zacarías
;
J. F. Escobar-Romero
;
Agustín Santiago Alvarado
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
32.
Alternative robust statistical methods to reduce parameters uncertainty: application to scatterometry
机译:
减少参数不确定性的替代稳健统计方法:在散射测量中的应用
作者:
J. Hazart
;
F. Sarrazy
;
R. Buyssou
;
C. Dezauzier
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
33.
Modeling of modulation functions of different configurations of optical chopper wheels
机译:
光学斩波轮不同配置的调制函数建模
作者:
V.-F. Duma
;
M. F. Nicolov
;
M. Kiss
;
T. Ilca
;
D. Demian
;
L. Szantho
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
34.
Combining rigorous diffraction calculation and GPU accelerated nonsequential raytracing for high precision simulation of a linear grating spectrometer
机译:
结合严格的衍射计算和GPU加速的非连续光线追踪技术,可以对线性光栅光谱仪进行高精度仿真
作者:
Florian Mauch
;
David Fleischle
;
Wolfram Lyda
;
Wolfgang Osten
;
Torsten Krug
;
Reto Häring
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
35.
Study of the convergence behavior of the vectorial modal method for metallic lamellar gratings
机译:
金属层状光栅矢量模态方法的收敛性研究
作者:
Babar K. Minhas
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
36.
Image simulation of projection systems in photolithography
机译:
光刻中投影系统的图像模拟
作者:
P. Evanschitzky
;
T. Fühner
;
A. Erdmann
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
37.
Ab initio intensity distribution of diffusely scattered light from rough metallic surfaces
机译:
从粗糙的金属表面散射光的从头算强度分布
作者:
J. A. Böhm
;
A. Vernes
;
M. J. Vellekoop
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
38.
Ronchigram analysis based on effective wavelength techniques and wavefront slope
机译:
基于有效波长技术和波前斜率的核能分析
作者:
F. S. Granados-Agustin
;
A. Garcia-Arellano
;
D. Aguirre-Aguirre
;
M. Campos-Garcia
;
A. Cornejo-Rodriguez
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
39.
Multi SLMs holographic display with inclined plane wave illumination
机译:
具有倾斜平面波照明的多SLM全息显示器
作者:
Weronika Zaperty
;
Tomasz Kozacki
;
Malgorzata Kujawińska
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
40.
Direct modeling of external quantum efficiency of silicon trap detectors
机译:
硅阱探测器的外部量子效率的直接建模
作者:
Thiago Menegotto
;
Maurício S. Lima
;
Giovanna B. Almeida
;
Iakyra B. Couceiro
;
Hans Peter Grieneisen
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
41.
Geometry reconstruction for scatterometry on a MoSi photo mask based on maximum likelihood estimation
机译:
基于最大似然估计的MoSi光掩模上散射测量的几何重构
作者:
M.-A. Henn
;
H. Gross
;
M. Bär
;
M. Wurm
;
B. Bodermann
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
42.
Rigorous simulations of 3D patterns on extreme ultraviolet lithography masks
机译:
极端紫外光刻掩模上的3D图案的严格模拟
作者:
Sven Burger
;
Lin Zschiedrich
;
Jan Pomplun
;
Frank Schmidt
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
43.
Method of adjusting an optical axis of receiving module of laser rangefinder to the main axis of space vehicle
机译:
将激光测距仪的接收模块的光轴调整到航天器主轴的方法
作者:
Alexandr G. Ershov
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
44.
The off-axis alignment of an asphere by a Fizeau interferometer
机译:
Fizeau干涉仪对非球面的离轴对准
作者:
Chao-Wen Liang
;
Yan-An Chen
;
Cheng-Chung Lee
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
45.
A Bayesian statistical model for hybrid metrology to improve measurement accuracy
机译:
用于混合计量的贝叶斯统计模型,可提高测量精度
作者:
R. M. Silver
;
N. F. Zhang
;
B. M. Barnes
;
J. Qin
;
H. Zhou
;
R. Dixson
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
46.
An autometed method for increasing the numerical aperture of a digital holography recording system
机译:
一种增加数字全息记录系统数值孔径的自动化方法
作者:
Anna Pelagotti
;
Melania Paturzo
;
Massimiliano Locatelli
;
rea Geltrude
;
rea Finizio
;
Pietro Ferraro
;
Grzegorz Finke
;
Malgorzata Kujawinska
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
47.
Specification of optical surface accuracy using the structure function
机译:
使用结构函数指定光学表面精度
作者:
Ross Zhelem
会议名称:
《Modeling aspects in optical metrology III》
|
2011年
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