掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献代查
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
电子学、通信
>
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
相关中文期刊
真空电器技术
通信与信息技术
中国新通信
电子信息对抗技术
天津光电线缆技术
移动信息
家庭影院技术
电视工程
通信对抗
电子学报
更多>>
相关外文期刊
Global sources electronic components
III-Vs Review
Antennas and Wireless Propagation Letters, IEEE
Radio Engineers, Journal of the British Institution of
Vision Systems Design
Space Communications
Wireless Review
Semiconductor photonics and technology
Printed circuit fabrication
Progress Report
更多>>
相关中文会议
2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议
中国电子学会电路与系统学会第十四届年会
首届电子信息系统质量与可靠性学术研讨会
四川省电子学会电子测量与仪器专委会第十四届学术年会
四川省电子学会传感技术第11届学术年会
中国电子学会可靠性分会第十四届学术年会
第九届全国信号和智能信息处理与应用学术会议
第三届上海-西安声学学会学术会议
第十二届保密通信与信息安全现状研讨会
2010年中国通信国际会议
更多>>
相关外文会议
2015 Intl Aegean Conference on Electrical Machines & Power Electronics, 2015 Intl Conference on Optimization of Electrical & Electronic Equipment & 2015 Intl Symposium on Advanced Electromechanical Motion Systems
International symposium on advanced optical manufacturing and testing technologies;AOMATT08; 20081119-21;20081119-21; Chengdu(CN);Chengdu(CN)
Submolecular Glass Chemistry and Physics
Terahertz for Military and Security Applications V; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6549
3rd Pacific international conference on applications of lasers and optics 2008 (PICALO 2008)
Conference on Projection Displays Ⅷ, Jan 23-24, 2002, San Jose, USA
Integrated Optoelectronics for Communication and Processing
Organic field-effect transistors XVI, hybird memory devices and printed circuits 2017
Conference on Advanced Optoelectronics and Lasers; 20030916-20030920; Alushta; UA
2013 International Conference on Data Communication Networking
更多>>
热门会议
Meeting of the internet engineering task force;IETF
日本建築学会;日本建築学会大会
日本建築学会(Architectural Institute of Japan);日本建築学会年度大会
日本建築学会学術講演会;日本建築学会
日本建築学会2010年度大会(北陸)
Korean Society of Noise & Vibration Control;Institute of Noise Control Engineering;International congress and exposition on noise control engineering;ASME Noise Control & Acoustics Division
土木学会;土木学会全国大会年次学術講演会
応用物理学会秋季学術講演会;応用物理学会
総合大会;電子情報通信学会
The 4th International Conference on Wireless Communications, Networking and Mobile Computing(第四届IEEE无线通信、网络技术及移动计算国际会议)论文集
更多>>
最新会议
2011 IEEE Cool Chips XIV
International workshop on Java technologies for real-time and embedded systems
Supercomputing '88. [Vol.1]. Proceedings.
RILEM Proceedings PRO 40; International RILEM Conference on the Use of Recycled Materials in Buildings and Structures vol.1; 20041108-11; Barcelona(ES)
International Workshop on Hybrid Metaheuristics(HM 2007); 20071008-09; Dortmund(DE)
The 57th ARFTG(Automatic RF Techniques Group) Conference, May 25, 2001, Phoenix, AZ
Real Time Systems Symposium, 1989., Proceedings.
Conference on Chemical and Biological Sensing V; 20040412-20040413; Orlando,FL; US
American Filtration and Separations Society conference
Combined structures congress;North American steel construction conference;NASCC
更多>>
全选(
0
)
清除
导出
1.
Actinic inspection of EUV reticles with arbitrary pattern design
机译:
任意图案设计的EUV标线的光化检查
作者:
Iacopo Mochi
;
Patrick Helfenstein
;
Rajendran Rajeev
;
Sara Fernandez
;
Dimitrios Kazazis
;
Shusuke Yoshitake
;
Yasin Ekinci
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
Defect inspection;
pattern inspection;
actinic inspection;
EUV lithography;
coherent diffraction imaging;
lensless imaging;
2.
Efficient simulation of EUV pellicles
机译:
EUV防护膜的高效仿真
作者:
P. Evanschitzky
;
A. Erdmann
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
Pellicle simulation;
computational lithography;
EUV lithography;
3.
Individual Multilayer Reflectance and Near Field Image Formation in an EUV Reticle
机译:
EUV掩模版中的单独多层反射率和近场图像形成
作者:
Lawrence S. Melvin
;
Yudhi Kandel
;
Artak Isoyan
;
Weimin Gao
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
4.
Reducing Roughness in Extreme Ultraviolet Lithography
机译:
减少极端紫外线光刻中的粗糙度
作者:
Chris A. Mack
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
Subject Terms;
line-edge roughness;
linewidth roughness;
stochastic-induced roughness;
LER;
LWR;
power spectral density;
PSD;
5.
High Power LPP-EUV Source with Long Collector Mirror Lifetime for High Volume Semiconductor Manufacturing
机译:
大功率LPP-EUV源具有长的收集镜寿命,可用于大批量半导体制造
作者:
Hakaru Mizoguchi
;
Hiroaki Nakarai
;
Tamotsu Abe
;
Krzysztof M Nowak
;
Yasufumi Kawasuji
;
Hiroshi Tanaka
;
Yukio Watanabe
;
Tsukasa Hori
;
Takeshi Kodama
;
Yutaka Shiraishi
;
Tatsuya Yanagida
;
Georg Soumagne
;
Tsuyoshi Yamada
;
Taku Yamazaki
;
Takashi Saitou
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
6.
Development of Amorphous Silicon based EUV hardmasks through Physical Vapor Deposition
机译:
通过物理气相沉积开发基于非晶硅的EUV硬掩模
作者:
Anuja De Silva
;
Yann Mignot
;
Luciana Meli
;
Scott DeVries
;
Yongan Xu
;
Indira Seshadri
;
Nelson M. Felix
;
Wilson Zeng
;
Yong Cao
;
Khoi Phan
;
Huixiong Dai
;
Christopher S. Ngai
;
Michael Stolfi
;
Daniel L. Diehl
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
7.
A Study on Enhancing EUV Resist Sensitivity (2)
机译:
增强EUV抵抗力的研究(2)
作者:
Atsushi SEKIGUCHI
;
Yoko Matsumoto
;
Michiya NAITO
;
Yoshiyuki UTSUMI
;
Tetsuo HARADA
;
Takeo WATANABE
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV Lithography;
Metal assignment PAG;
Sn-,PAG;
Te-PAG;
EUV metal resist;
Synchrotron;
8.
Development of the negative-tone molecular resists for EB/EUVL having high EUV absorption capacity, and molecular design method
机译:
具有高EUV吸收能力的EB / EUVL负性分子抗蚀剂的开发及分子设计方法
作者:
Takashi Sato
;
Tomoaki Takigawa
;
Yuta Togashi
;
Takumi Toida
;
Masatoshi Echigo
;
Tetsuo Harada
;
Takeo Watanabe
;
Hiroto Kudo
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
resist material;
high EUV absorption;
polyphenol;
molecular resist;
negative-tone;
9.
Characterization of pellicle membranes by lab-based spectroscopic reflectance and transmittance measurements in the extreme ultraviolet
机译:
通过在极端紫外线下基于实验室的光谱反射率和透射率测量来表征防护膜
作者:
Lukas Bahrenberg
;
Serhiy Danylyuk
;
Sascha Brose
;
Ivan Pollentier
;
Marina Timmermans
;
Emily Gallagher
;
Jochen Stollenwerk
;
Peter Loosen
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
actinic pellicle inspection;
ultrathin membrane;
lab-based EUV metrology;
spectroscopic reflectometry;
spectroscopic transmittance;
spectroscopic reflectance;
optical constants;
complex refractive index;
10.
Thermo-Mechanical Behavior Analysis of Extreme-Ultraviolet Pellicle Cooling with H2 Flow
机译:
氢气流对极紫外光囊冷却的热力学行为分析
作者:
Myung-Gi Kang
;
Sung-Gyu Lee
;
Eun-Sang Park
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV pellicle;
Pellicle cooling;
Hydrogen gas flow;
11.
Wrinkle formation analysis in extreme-ultraviolet pellicle
机译:
极紫外线防护膜的皱纹形成分析
作者:
Hae-Nam Jung
;
Guk-Jin Kim
;
Sung-Gyu Lee
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV pellicle membrane;
Pellicle;
Deformation;
Wrinkle;
12.
Coater/Developer Based Techniques to Improve High-Resolution EUV Patterning Defectivity
机译:
基于涂布机/开发人员的技术,可改善高分辨率EUV图案缺陷
作者:
Koichi Hontake
;
Lior Huli
;
Corey Lemley
;
Dave Hetzer
;
Eric Liu
;
Akiteru Ko
;
Shinichiro Kawakami
;
Takeshi Shimoaoki
;
Yusaku Hashimoto
;
Koichiro Tanaka
;
Karen Petrillo
;
Luciana Meli
;
Anuja De Silva
;
Yongan Xu
;
Nelson Felix
;
Richard Johnson
;
Cody Murray
;
Alex Hubbard
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
Extreme ultraviolet lithography (EUVL);
Defectivity improvement;
CDU;
Line Width Roughness(LWR);
Line Edge Roughness(LER);
13.
Extreme ultra violet lithographic optical projection system design method using Code V lens module and generalized Gaussian constants
机译:
使用Code V透镜模块和广义高斯常数的极紫外光刻光学投影系统设计方法
作者:
Li-Jen Hsiao
;
Hoang-Yan Lin
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
14.
Characterization of EBL2 EUV exposure facility
机译:
EBL2 EUV曝光设备的特性
作者:
Edwin te Sligte
;
Michel van Putten
;
Freek T. Molkenboer
;
Peter van der Walle
;
Pirn M. Muilwijk
;
Norbert B. Koster
;
Jeroen Westerhout
;
Peter J. Kerkhof
;
Bastiaan W. Oostdijck
;
Wouter Mulckhuyse
;
Alex F. Deutz
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV exposure;
mask;
pellicle;
XPS analysis;
metrology;
handling;
contamination control;
15.
Classification and Printability of EUV Mask Defects from SEM images
机译:
SEM图像中EUV掩模缺陷的分类和可印刷性
作者:
Wonil Cho
;
Daniel Price
;
Paul A. Morgan
;
Daniel Rost
;
Masaki Satake
;
Vikram L. Tolani
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV mask inspection;
mask defects;
ADC;
Automatic Defect Classification;
defect SEM review;
mask SEM;
reticle SEM;
SEM ADC;
Aerial Image Analyzer;
AIA;
Reticle Decision Center;
RDC;
16.
EUV local CDU healing performance and modeling capability towards 5nm node
机译:
EUV本地CDU修复性能和对5nm节点的建模能力
作者:
Tae Kwon Jee
;
Vadim Timoshkov
;
Peter Choi
;
David Rio
;
Yu-Cheng Tsai
;
Hidetami Yaegashi
;
Kyohei Koike
;
Carlos Fonseca
;
Stijn Schoofs
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
5nm node;
contact hole;
CD healing;
local CDU;
after-etch model;
OPC errors;
EPE;
17.
Roadmap Evolution: From NTRS to ITRS, From ITRS 2.0 to IRDS
机译:
路线图演变:从NTRS到ITRS,从ITRS 2.0到IRDS
作者:
Paolo A. Gargini
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
18.
Key Components Development Progress Updates of the 250W High Power LPP-EUV Light Source
机译:
250W大功率LPP-EUV光源关键部件开发进度更新
作者:
Takayuki Yabu
;
Yasufumi Kawasuji
;
Tsukasa Hori
;
Takeshi Okamoto
;
Hiroshi Tanaka
;
Kenichi Miyao
;
Takuya Ishii
;
Yukio Watanabe
;
Tatsuya Yanagida
;
Yutaka Shiraishi
;
Tamotsu Abe
;
Takeshi Kodama
;
Hiroaki Nakarai
;
Taku Yamazaki
;
Noritoshi Itou
;
Takashi Saito
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV light source;
EUV lithography;
Laser produced plasma;
Tin;
CO_2 laser;
Droplet generator;
Collector mirror;
Debris mitigation;
19.
Technology for defectivity improvement in resist coating and developing process in EUV lithography process
机译:
EUV光刻工艺中抗蚀剂涂层和显影工艺缺陷改进的技术
作者:
Yuya Kamei
;
Takahiro Shiozawa
;
Shinichiro Kawakami
;
Hiroshi Ichinomiya
;
Masashi Enomoto
;
Kathleen Nafus
;
Philippe Foubert
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUVL;
defect;
CH 24 nm;
optimized rinse;
residue;
CDU;
WTW;
FTF;
DTD;
LWR;
LCDU;
20.
Lifetime estimation of extreme-ultraviolet pellicle at 500 W source power by thermal stress analysis
机译:
通过热应力分析估算500 W源功率下的极紫外防护膜
作者:
Eun-Sang Park
;
Chung-Hyun Ban
;
Jae-Hun Park
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV;
Pellicle;
Thermal;
Stress;
21.
Search for Multi-Stack EUV Pellicle Membrane for EUV Non-Actinic Mask Inspection
机译:
搜索用于EUV非光化面膜检查的多堆叠EUV膜膜
作者:
Sung-Gyu Lee
;
Guk-Jin Kim
;
Su-Mi Hur
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
Multi-stack EUV pellicle membrane;
EUV mask inspection;
Non-actinic inspection;
DUV wavelength;
22.
Lifetime impact on residual stress of EUV pellicle
机译:
终生对EUV防护膜残余应力的影响
作者:
Min-Woo Kim
;
Sung-Gyu Lee
;
Eun-Sang Park
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV;
Pellicle;
Residual stress;
23.
Contrast Matching of Line Gratings obtained with NXE3XXX and EUV- Interference Lithography
机译:
NXE3XXX和EUV干涉光刻获得的线栅对比度匹配
作者:
Zuhal Tasdemir
;
Iacopo Mochi
;
Karen Garrido 01vera
;
Marieke Meeuwissen
;
Oktay Yildirim
;
Rolf Custers
;
Rik Hoefnagels
;
Gijsbert Rispens
;
Roberto Fallica
;
Michaela Vockenhuber
;
Yasin Ekinci
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV lithography;
image contrast;
interference lithography;
aerial image;
high reso- lution patterning;
photoresist;
NXE3XXX;
24.
Applications of RCWA on EUV mask optics
机译:
RCWA在EUV掩模光学上的应用
作者:
Taian Fan
;
Lisong Dong
;
Yayi Wei
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
RCWA;
Rigorous Coupled Wave Analysis;
EUV;
shadowing effect;
25.
A new objective for EUV lithography, EUV microscopy, and 2D x-ray imaging
机译:
EUV光刻,EUV显微镜和2D X射线成像的新物镜
作者:
Manfred L. Bitter
;
Kenneth W. Hill
;
Philip C. Efthimion
;
Jian Lu
;
Brian F. Kraus
;
Lan Gao
;
Luis F. Delgado-Aparicio
;
Novimir A. Pablant
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
X-ray imaging;
EUV-Lithography;
EUV-microscopy;
26.
Optimized phase-shifting masks for high-resolution resist patterning by interference lithography
机译:
优化的相移掩模,用于通过干涉光刻技术进行高分辨率抗蚀剂构图
作者:
Sascha Brose
;
Serhiy Danylyuk
;
Lukas Bahrenberg
;
Rainer Lebert
;
Peter Loosen
;
Larissa Juschkin
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
laboratory exposure tool;
achromatic Talbot lithography;
resist characterization;
phase-shifting masks;
aerial image contrast;
EUV;
transmission masks;
high-resolution patterning;
27.
EUV Mask Manufacturing Readiness in the Merchant Mask Industry
机译:
商人面罩行业中的EUV面罩制造准备情况
作者:
Michael Green
;
Yohan Choi
;
Young Ham
;
Henry Kamberian
;
Chris Progler
;
Shih-En Tseng
;
Tsann-Bim Chiou
;
Junji Miyazaki
;
Ad Lammers
;
Alek Chen
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
extreme ultraviolet lithography (EUVL);
merchant mask manufacturers;
original equipment manufacturers (OEMs);
advanced mask characterization (AMC);
mask rule check (MRC);
28.
Measurement of through-focus EUV pattern shifts using the SHARP actinic microscope
机译:
使用SHARP光化显微镜测量全焦点EUV模式偏移
作者:
Obert Wood
;
Yulu Chen
;
Pawitter Mangat
;
Kenneth Goldberg
;
Markus Benk
;
Bryan Kasprowicz
;
Henry Kamberian
;
Jeremy McCord
;
Thomas Wallow
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV;
3D mask effects;
pattern shift;
rigorous 3D mask lithography simulation;
29.
EUV source optimization driven by fundamental diffraction considerations
机译:
基于基本衍射考虑的EUV源优化
作者:
Jo Finders
;
Eelco van Setten
;
Par Broman
;
Erik Wang
;
John McNamara
;
Paul van Adrichem
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
Illumination Source Optimization;
Contrast optimization;
Local CDU;
30.
Unraveling the role of secondary electrons upon their interaction with photoresist during EUV exposure
机译:
揭示二次电子在EUV曝光期间与光致抗蚀剂相互作用时的作用
作者:
Ivan Pollentier
;
Yannick Vesters
;
Jing Jiang
;
Pieter Vanelderen
;
Danilo de Simone
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
EUV;
photoresist;
CAR;
secondary electrons;
RGA;
31.
Optical proximity correction for anamorphic extreme ultraviolet lithography
机译:
变形极紫外光刻的光学邻近校正
作者:
Chris Clifford
;
Michael Lam
;
Ananthan Raghunathan
;
Fan Jiang
;
Germain Fenger
;
Kostas Adam
会议名称:
《International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017》
|
2017年
关键词:
Optical Proximity Correction (OPC);
Extreme Ultraviolet Lithography (EUV);
Anamorphic;
Modeling;
意见反馈
回到顶部
回到首页