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Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US
Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US
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1.
Exploring the Capabilities of Immersion Lithography Through Simulation
机译:
通过仿真探索浸没式光刻的能力
作者:
Chris A. Mack
;
Jeffrey D. Byers
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
immersion lithography;
lithography simulation;
PROLFTH;
2.
Optical extensions towards the 45 nm node
机译:
朝着45 nm节点的光学扩展
作者:
E. Hendrickx
;
P. Monnoyer
;
L. Van Look
;
G. Vandenberghe
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
ArF lithography;
optical extensions;
mask error factor;
process window;
forbidden pitch;
3.
Determination of resist parameters using the extended Nijboer-Zernike theory
机译:
使用扩展的Nijboer-Zernike理论确定抗蚀剂参数
作者:
Peter Dirksen
;
Joseph Braat
;
Augustus J.E.M. Janssen
;
Ad Leeuwestein
;
Hans Kwinten
;
David Van Steenwinckel
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
optical lithography;
resist;
diffusion constant;
focus noise;
point-spread function;
extended nijboer-zernike theory;
4.
Deep-UV Immersion Interferometric Lithography
机译:
深紫外线浸没式光刻
作者:
Alex K. Raub
;
A. Frauenglass
;
S. R. J. Brueck
;
Will Conley
;
Ralph Dammel
;
Andy Romano
;
Mitsuru Sato
;
William Hinsberg
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
193-nm resist;
liquid immersion;
interferometric lithography;
65-nm half-pitch;
5.
Degradation Mechanism and Materials for 157 nm Pellicles
机译:
157 nm膜的降解机理和材料
作者:
Cesar M. Garza
;
Tom Bierschenk
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
microlithography;
optical lithography;
157nm;
pellicle;
teflon AF~R cytop~R PVDF;
hydrogen;
fluorine;
fluorination;
6.
Correction of 157nm Lens Based on Phase Ring Aberration Extraction Method
机译:
基于相环像差提取方法的157nm透镜校正
作者:
Jeff Meute
;
Georgia Rich
;
Will Conley
;
Bruce Smith
;
Lena Zavyalova
;
Julian Cashmore
;
Dominic Ashworth
;
Jim Webb
;
Lisa Rich
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
aberration extraction;
157nm objective lens correction;
phase rings;
7.
Contact Hole Reticle Optimization by Using Interference Mapping Lithography (IML~(TM))
机译:
使用干涉映射光刻技术(IML〜(TM))优化接触孔掩模版
作者:
Robert Socha
;
Douglas Van Den Broeke
;
Stephen Hsu
;
J. Fung Chen
;
Tom Laidig
;
Noel Corcoran
;
Uwe Hollerbach
;
Kurt E. Wampler
;
Xuelong Shi
;
Will Conley
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
8.
Benefiting from polarization - effects on high-NA imaging
机译:
受益于极化-对高NA成像的影响
作者:
Bruce W. Smith
;
Lena Zavyalova
;
Andrew Estroff
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
polarization;
optical lithography;
high NA;
immersion lithography;
9.
Characterization of ACLV for Advanced Technology Nodes Using Scatterometer Based Lens Fingerprinting Technique
机译:
使用基于散射仪的镜头指纹技术表征先进技术节点的ACLV
作者:
Changan Wang
;
Gary Zhang
;
Stephen DeMoor
;
Colin Tan
;
John Ilzhoefer
;
Chris Atkinson
;
Chad Wickman
;
Steve Hansen
;
Bernd Geh
;
Donis Flagello
;
Mark Boehm
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
ACLV;
CD control;
scanner fingerprinting;
low k_1 lithography;
simulation;
10.
New paradigm in Lens metrology for lithographic scanner: evaluation and exploration
机译:
用于光刻机的镜头计量学的新范例:评估和探索
作者:
Kafai Lai
;
Gregg Gallatin
;
Mark van de Kerkhof
;
Wim de Boeij
;
Haico Kok
;
Martin Schriever
;
Jaime Morillo
;
Bob Fair
;
Stephanie Bennett
;
Daniel Corliss
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
11.
New Double Exposure Technique using Alternating Phase-Shifting Mask with Reversed Phase
机译:
使用具有反相的交替相移掩模的新双曝光技术
作者:
Shoji Hotta
;
Katsuya Hayano
;
Kazuyuki Kakuta
;
Norio Hasegawa
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
phase-shifting mask;
double exposure;
mask topography;
phase error;
position error;
12.
Lithography of choice for the 45 nm node: New medium, new wavelength or new beam?
机译:
45 nm节点选择的光刻技术:新介质,新波长还是新光束?
作者:
Fumikatsu Uesawa
;
Mikio Katsumata
;
Kazuhisa Ogawa
;
Koichi Takeuchi
;
Shinji Omori
;
Masaki Yoshizawa
;
Hiroichi Kawahira
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
ArF;
mask;
ACLV;
MEF;
phase shift;
aberration;
immersion;
electron beam;
NGL;
13.
Method to improve the resolution of contact holes
机译:
提高接触孔分辨率的方法
作者:
Gerhard Kunkel
;
Ralf Ziebold
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
contact hole;
embedded attenuated phase-shift mask;
rim-type phase-shift mask;
resolution enhancement technology;
14.
Model-based OPC/DRC considering local flare effects
机译:
考虑局部眩光影响的基于模型的OPC / DRC
作者:
Hiroki Futatsuya
;
Teruyoshi Yao
;
Morimi Osawa
;
Kozo Ogino
;
Hiromi Hoshino
;
Hiroshi Arimoto
;
Yasuhide Machida
;
Satoru Asai
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
scattered light;
local flare;
OPC;
DRC;
15.
Monte-Carlo-based Analysis of Local CD Variation and Application to Establish Realistic Process and Tool Error Budgets
机译:
基于蒙特卡洛的局部CD变化分析和应用,以建立现实的过程和工具误差预算
作者:
James W. Blatchford
;
Cathy Fruga
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
CD control;
ACLV;
local errors;
lens aberrations;
monte carlo;
simulation;
16.
Improvement of deteriorated resolution caused by polarization phenomenon with TARC process
机译:
使用TARC工艺改善由极化现象引起的分辨率降低
作者:
Kouichirou Tsujita
;
Isao Mita
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
polarization;
high NA;
top-ARC;
Arf;
17.
Immersion lithography and its impact on semiconductor manufacturing
机译:
浸没式光刻技术及其对半导体制造的影响
作者:
Burn J. Lin
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
microlithography;
optical lithography;
immersion lithography;
ArF lithography;
193 nm;
157 nm;
polarized imaging;
high-NA imaging;
bubbles;
18.
Image Simulation in Immersion Lithography Using Debye Integral and Scattering Matrix Method
机译:
使用德拜积分和散射矩阵法的浸没式光刻图像模拟
作者:
Seong-Sue Kim
;
Sang-Gyun Woo
;
Han-Ku Cho
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
19.
In-situ aberration monitoring using phase wheel targets
机译:
使用相轮目标进行原位像差监控
作者:
Lena Zavyalova
;
Bruce Smith
;
Toshifumi Suganaga
;
Seiji Matsuura
;
Toshiro Itani
;
Julian Cashmore
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
optical lithography;
aberration;
phase wheel target;
20.
Flare and its effects on imaging
机译:
耀斑及其对成像的影响
作者:
Stephen P. Renwick
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
flare;
CD uniformity;
depth of focus;
CD control;
lens;
contamination;
21.
Gray Assist Bar OPC
机译:
灰色辅助栏OPC
作者:
Neal V. Lafferty
;
Geert Vandenberghe
;
Bruce W. Smith
;
Matthew Lassiter
;
Patrick M. Martin
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
optical proximity correction;
gray assist bars;
SRAF;
printability;
depth of focus;
process window;
22.
Study of Air Bubble Induced Light Scattering Effect On Image Quality in 193 nm Immersion Lithography
机译:
193 nm浸没式光刻中气泡引起的光散射对图像质量的影响研究
作者:
Yongfa Fan
;
Neal Lafferty
;
Anatoly Bourov
;
Lena Zavyalova
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
optical lithography;
immersion;
mie scattering;
23.
Optical Lithography in the sub-50nm regime
机译:
低于50nm制程的光学光刻
作者:
Donis G. Flagello
;
Bill Arnold
;
Steve Hansen
;
Mircea Dusa
;
Robert Socha
;
Jan Mulkens
;
Rainer Garreis
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
high NA;
polarization;
imaging;
immersion;
193nm;
24.
Evaluation of the critical dimension control requirements in the ITRS using statistical simulation and error budgets
机译:
使用统计模拟和错误预算评估ITRS中的关键尺寸控制要求
作者:
Scott D. Hector
;
Sergei Postnikov
;
Jonathan Cobb
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
ITRS;
error budgets;
monte carlo simulation;
EUV;
MEEF;
aberrations;
flare;
immersion;
25.
157-nm Lithography with Extremely High Numerical Aperture Lens for 45-nm Technology Node
机译:
具有用于45 nm技术节点的极高数值孔径透镜的157 nm平版印刷
作者:
Toshifumi Suganaga
;
Jeung-Woo Lee
;
Eiji Kurose
;
Toshiyuki Ishimaru
;
Takamitsu Furukawa
;
Toshiro Itani
;
Kiyoshi Fujli
;
Julian Cashmore
;
Malcolm Gower
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
157-nm lithography;
high NA;
attenuated phase shifting masks;
alternating phase shifting masks;
26.
RET Integration of CPL~(TM) Technology for Random Logic
机译:
用于随机逻辑的CPL〜(TM)技术的RET集成
作者:
Stephen D. Hsu
;
Doug Van Den Broeke
;
J. Fung Chen
;
Xuelong Shi
;
Michael Hsu
;
Tom Laidig
;
Will Conley
;
Lloyd Litt
;
Wei Wu
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
CPL Technology;
6 attenuated PSM;
scattering bar OPC;
CD control;
transmission tuning;
27.
Polarization Effects in Immersion Lithography
机译:
浸没式光刻中的极化效应
作者:
Konstantinos Adam
;
Wilhelm Maurer
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
immersion lithography;
vector diffraction theory;
hopkins imaging;
SOCS approximation;
polarization;
28.
Production of Novel Materials for 157nm and 193nm Soft Pellicles
机译:
157nm和193nm软膜的新型材料的生产
作者:
Paul A. Zimmerman
;
Chris van Peski
;
Danny Miller
;
Ryan P. Callahan
;
Matthew Cashion
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
29.
Predictive modeling of advanced illumination pupils used as imaging enhancement for low kl applications
机译:
用于低kl应用的成像增强功能的高级照明光瞳的预测模型
作者:
Tilmann Heil
;
Paul Graeupner
;
Reiner Garreis
;
Rafael Egger
;
Markus Brotsack
;
Jo Finders
;
Steve Hansen
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
illumination pupil;
modeling;
low k1 imaging;
30.
Assessing the impact of intrinsic birefringence on 157nm lithography
机译:
评估固有双折射对157nm光刻的影响
作者:
Nakgeuon Seong
;
Kafai Lai
;
Alan E Rosenbluth
;
Gregg Gallatin
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
birefringence;
matrix pupil;
157 nm lithography;
coating induced birefringence;
high NA lithography;
31.
Resolution Enhancement Technology: The Past, the Present, and Extensions for the Future
机译:
分辨率增强技术:过去,现在和将来的扩展
作者:
Franklin M. Schellenberg
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
history of optics;
abbe;
resolution;
resolution enhancement;
RET;
polarization;
32.
Illumination Source Mapping and Optimization with Resist Based Process Metrics for Low k_1 Imaging
机译:
低k_1成像的照明源映射和基于抗蚀剂的处理指标优化
作者:
Gary Zhang
;
Steve Hansen
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
off-axis illumination;
lithography simulation;
illumination source;
pupil fill;
aerial image;
NILS;
resist modeling;
process metrics;
DOF;
MEEF;
mask bias;
OPC;
CD uniformity;
common process window;
ACLV;
scattering bars;
SRAf;
33.
Feasibility of immersion lithography
机译:
浸没式光刻的可行性
作者:
Soichi Owa
;
Hiroyuki Nagasaka
;
Yuuki Ishii
;
Osamu Hirakawa
;
Taro Yamamoto
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
immersion lithography;
feasibility;
exposure tool;
polarization;
45nm node;
34.
Optical path and image performance monitoring of a full field 157 nm scanner
机译:
全场157 nm扫描仪的光路和图像性能监控
作者:
Greg Wells
;
Jan Hermans
;
Robert Watso
;
Young-Seog Kang
;
Robert Morton
;
Michael Kocsis
;
Uzo Okoroanyanwu
;
Peter De Bisschop
;
Nickolay Stepanenko
;
Kurt Ronse
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
157 nm;
lithography;
scanner;
imaging;
monitoring;
35.
Extending optical lithography with immersion
机译:
通过浸没扩展光学光刻
作者:
Bob Streefkerk
;
Jan Baselmans
;
Wendy Gehoel-van Ansem
;
Jan Mulkens
;
Chris Hoogendam
;
Martin Hoogendorp
;
Donis Flagello
;
Harry Sewell
;
Paul Graeupner
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
immersion lithography;
high NA;
TWINSCAN;
bath;
shower;
36.
Contact Hole Formation by Multiple Exposure Technique in Ultra-low k_1 Lithography
机译:
超低k_1光刻中多次曝光技术形成的接触孔
作者:
Hiroko Nakamura
;
Yasunobu Onishi
;
Kazuya Sato
;
Satoshi Tanaka
;
Shoji Mimotogi
;
Koji Hashimoto
;
Soichi Inoue
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
low k_1;
contact hole;
multiple exposure;
multiple resist layer patterning;
37.
Alternating phase-shifting mask design for low aberration sensitivity
机译:
交替相移掩模设计,低像差灵敏度
作者:
Giuseppe Y. Mak
;
Alfred K. Wong
;
Edmund Y. Lam
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
aberration;
alternating phase-shifting mask;
image placement error;
phase width;
monte carlo analysis;
zernike coefficient;
38.
Investigation of stray light characteristic by multiple Gaussian modeling and its OPC application
机译:
多重高斯模型研究杂散光特性及其OPC应用
作者:
Hochul Kim
;
Dongseok Nam
;
Gi-Sung Yeo
;
Suk-Joo Lee
;
Sang-Gyun Woo
;
Han-ku Cho
;
Woo-sung Han
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
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2004年
39.
Experimental Investigation of Fabrication Process-,Transportation-, Storage-, Handling-Induced Contamination of 157 nm Reticles and Vacuum-UV Cleaning
机译:
157 nm掩模版的制造过程,运输,存储和处理引起的污染以及真空-UV清洁的实验研究
作者:
U. Okoroanyanwu
;
N. Stepanenko
;
G. Vereecke
;
A. Eliat
;
M. Kocsis
;
Y.S. Kang
;
R. Jonckheere
;
T. Conard
;
K. Ronse
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
40.
Optical Coupling of Lens, Liquid and Resist in Immersion Lithography: Rigorous Model and Assessment
机译:
浸没式光刻中镜片,液体和抗蚀剂的光学耦合:严格的模型和评估
作者:
Mosong Cheng
;
Benjamin Ho
;
Richard Yamaguchi
;
Kazutoshi Yoshioka
;
Hidetami Yaegashi
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
immersion lithography;
liquid;
resist;
polarization;
fourier optics;
full vector model;
41.
Impact of resist blur on MEF, OPC and CD control
机译:
抗蚀剂模糊对MEF,OPC和CD控制的影响
作者:
T. Brunner
;
C. Fonseca
;
N. Seong
;
M. Burkhardt
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
lithography;
OPC;
CD control;
MEF;
high NA imagery;
microlithography;
high resolution lithography;
resist blur;
chemically amplified resist;
simulation;
resist models;
42.
Initial assessment of the lithographic impact of the use of Hard Pellicles: an Overview
机译:
初步评估使用硬质薄膜对光刻的影响:概述
作者:
Peter De Bisschop
;
Michael Kocsis
;
Richard Bruls
;
Andrew Grenville
;
Chris Van Peski
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
hard pellicle;
157 nm lithography;
experimental assessment;
43.
Initial Experimental Verification: Characterizing Tool Illumination and PSM Performance with Phase Shifting Masks
机译:
初步实验验证:使用相移掩模表征工具的照明度和PSM性能
作者:
Gregory McIntyre
;
Andrew Neureuther
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
illumination angular distribution;
local effective source;
illumination monitor;
mask quality monitor;
intensity imbalance and phase etch error;
optical lithography;
44.
Hard phase-shifting masks for the 65 nm node - A performance comparison
机译:
适用于65 nm节点的硬相移掩模-性能比较
作者:
Rainer Pforr
;
Mario Hennig
;
Roderick Koehle
;
Nicolo Morgana
;
Joerg Thiele
;
Jens Weckesser
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
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2004年
关键词:
resolution;
process window;
CD control;
phase-shifting mask;
MEEF;
dipole illumination;
45.
Study of OPC for AAPSM Reticles using Various Mask Fabrication Techniques
机译:
使用各种掩模制造技术研究用于AAPSM掩模版的OPC
作者:
Gregory P. Hughes
;
D. Kamaruddin
;
Kent H. Nakagawa
;
Susan MacDonald
;
W. Wilkinson
;
Craig West
;
KT Park
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
alternating PSM;
phase-shift mask;
193nm lithography;
AIMS;
AAPSM;
OPC;
transmission balance;
intensity balance;
phase error sensitivity;
bias dry vs undercut etch;
46.
The Application of CPL Reticle Technology for the 0.045mm Node
机译:
CPL标线技术在0.045mm节点上的应用
作者:
Will Conley
;
Doug van den Broeke
;
Robert Socha
;
Wei Wu
;
Lloyd Litt
;
Kevin Lucas
;
Bernie Roman
;
Ritchie Peters
;
Colita Parker
;
Fung Chen
;
Kurt Wampler
;
Tom Laidig
;
Erika Schaefer
;
Jan Pieter Kuijten
;
Arjan Verhappen
;
Stefan van de Goor
;
Martin Chaplin
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
47.
Simulation of the coupled thermal/optical effects for liquid immersion micro-anolithography
机译:
液浸式微/纳米光刻的热/光耦合效应的仿真
作者:
So-Yeon Baek
;
Alexander Wei
;
Daniel C. Cole
;
Greg Nellis
;
Michael Yeung
;
Amr Abdo
;
Roxann Engelstad
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
optical lithography;
liquid immersion;
simulation;
high NA;
48.
Scattering in Liquid Immersion Lithography
机译:
液体浸没光刻中的散射
作者:
M. Switkes
;
T. M. Bloomstein
;
R. R. Kunz
;
M. Rothschild
;
J. W. Ruberti
;
T. A. Shedd
;
M. Yeung
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
bubbles;
immersion liquid;
immersion lithography;
resist outgassing;
scattering;
water;
49.
Photo-induced changes in 157-nm optical coatings
机译:
157 nm光学涂层的光致变化
作者:
V. Liberman
;
T. M. Bloomstein
;
M. Rothschild
;
S. T. Palmacci
;
J. H. C. Sedlacek
;
A. Grenville
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
50.
Process Effects in Flare Measurement
机译:
耀斑测量中的过程影响
作者:
Pary Baluswamy
;
Linda Somerville
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
flare;
kirk's test;
substrate reflectivity;
process;
interaction;
reduction;
51.
Accurate Gate CD Control through the Full-Chip Area Using the Dual Model in the Model-Based OPC
机译:
在基于模型的OPC中使用双模型通过整个芯片区域进行精确的门CD控制
作者:
Ji-Suk Hong
;
Chul-Hong Park
;
Dong-Hyun Kim
;
Soo-Han Choi
;
Yong-Chan Ban
;
Yoo-Hyon Kim
;
Moon-Hyun Yoo
;
Jeong-Taek Kong
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
model-based OPC;
etch proximity;
empirical modeling;
dual model;
lithography;
ACLV;
52.
157-nm Chromeless Phase Lithography with Extremely High Numerical Aperture
机译:
具有极高数值孔径的157 nm无铬相位光刻
作者:
Kunio Watanabe
;
Takuya Hagiwara
;
Seiji Matsuura
;
Toshifumi Suganaga
;
Toshiro Itani
;
Kiyoshi Fujii
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
chromeless phase lithography;
157-nm lithography;
extremely high numerical aperture;
resolution limit;
normalized image log slope;
53.
Approaching the numerical aperture of water - Immersion lithography at 193nm
机译:
接近水的数值孔径-193nm浸没式光刻
作者:
Bruce W. Smith
;
Anatoly Bourov
;
Yongfa Fan
;
Lena Zavyalova
;
Neal Lafferty
;
Frank Cropanese
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
immersion lithography;
high NA;
193nm;
54.
ArF Immersion Lithography: Critical Optical Issues
机译:
ArF浸没式光刻技术:关键的光学问题
作者:
Tokuyuki Honda
;
Yasuhiro Kishikawa
;
Toshinobu Tokita
;
Hiroshi Ohsawa
;
Miyoko Kawashima
;
Akinori Ohkubo
;
Minoru Yoshii
;
Koji Uda
;
Akiyoshi Suzuki
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography XVII pt.1; 20040224-20040227; Santa Clara,CA; US》
|
2004年
关键词:
ArF;
immersion;
lithography;
water;
bubble;
imaging;
interferometric exposure;
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