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International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada
International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada
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1.
OPTIMIZATION OF SUPPORT TEMPERATURE IN RTA-TOOLS BY SCANNING INFRARED DEPOLARIZATION IMAGING OF MONITOR WAFERS
机译:
扫描晶片的红外去极化成像优化RTA工具中的支持温度
作者:
H.-D. Geiler
;
H. Karge
;
B. Krimbacher
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
2.
DETERMINING THE UNCERTAINTY OF WAFER TEMPERATURE MEASUREMENTS INDUCED BY VARIATIONS IN THE OPTICAL PROPERTIES OF COMMON SEMICONDUCTOR MATERIALS
机译:
确定通用半导体材料的光学特性变化引起的晶片温度测量的不确定性
作者:
B. Adams
;
A. Hunter
;
M.Yam
;
B. Peuse
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
3.
CORONA-CHARGE EVALUATION OF THERMAL SiO_2 GROWTH BY SINGLE-WAFER AND BATCH METHODS
机译:
单晶圆和分批法对热SiO_2生长的电晕电荷评估
作者:
A. T. Fiory
;
J. Zhang
;
P. Frisella
;
J. Hebb
;
A. Agarwal
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
4.
INTEGRATED RAPID THERMAL CVD OXYNITRIDE GATE DIELECTRIC FOR ADVANCED CMOS TECHNOLOGY
机译:
先进CMOS技术的集成快速热CVD氧氮化物栅电介质
作者:
Hsing-Huang Tseng
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
5.
LASER THERMAL PROCESSING (LTP) FOR FABRICATION OF ULTRA-SHALLOW, HYPER-ABRUPT, HIGHLY ACTIVATED JUNCTIONS FOR DECA-NANOMETER MOS TRANSISTORS
机译:
激光热加工(LTP),用于制备十纳米MOS晶体管的超浅,高吸收,高活性结
作者:
Somit Talwar
;
Yun Wang
;
Carol Gelatos
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
6.
MECHANISMS AND APPLICATIONS OF THE CONTROL OF DOPANT PROFILES IN SILICON USING Si_(1-x-y)Ge_xC_y LAYERS GROWN BY RTCVD
机译:
RTCVD生长Si_(1-x-y)Ge_xC_y层控制硅中掺杂剂分布的机理及应用
作者:
J.C. Sturm
;
M.S. Carroll
;
M. Yang
;
J. Gray
;
E. Stewart
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
7.
MULTI-SUBSTRATE CoSi_2 FORMATION KINETICS IN A LOW-PRESSURE, SUSCEPTOR-BASED RTP TOOL
机译:
低压,基于感受器的RTP工具中的多基质CoSi_2形成动力学
作者:
Ashur J. Atanos
;
Vijay Parihar
;
Sey-Ping Sun
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
8.
NOVEL HIGH RAMP-DOWN RATE AND REFLECTOR DESIGN IN RAPID THERMAL PROCESSING
机译:
快速热加工中的新型高斜率和反射器设计
作者:
M.H. Lee
;
C.W
;
Liu
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
9.
SHALLOW JUNCTION CHALLENGES TO RAPID THERMAL PROCESSING
机译:
快速热加工的浅结挑战
作者:
L.A. Larson
;
B.C. Covington
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
10.
PROCESSING AND CHARACTERIZATION OF RTCVD SILICON NITRIDE AND OXYNITRIDE GROWN IN A SINGLE-WAFER CLUSTER TOOL
机译:
单晶圆团簇工具中RTCVD硅氮化物和生长的氧化氮化物的加工与表征
作者:
C. P. DEmic
;
E.P. Gusev
;
J. Newbury
;
P. Kozlowski
;
K.Chan
;
T. Zabel
;
P. Varekamp
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
11.
RAPID THERMAL PROCESSING USING STEAM
机译:
使用蒸汽进行快速热加工
作者:
R. Sharangpani
;
J.H. Das
;
S.-P. Tay
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
12.
ASPECTS OF ENHANCED TITANIUM SALICIDE FORMATION
机译:
增强钛硅化物形成的方面
作者:
L. Kappius
;
R. T. Tung
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
13.
ELECTRICAL AND CHEMICAL PROPERTIES OF ULTRATHIN RT-MOCVD GROWN Ti-DOPED Ta_2O_5
机译:
超薄RT-MOCVD生长的Ti掺杂Ta_2O_5的电学和化学性质
作者:
S. J. Lee
;
H. F. Luan
;
A. Mao
;
T. S. Jeon
;
C. H. Lee
;
Y. Senzaki
;
D. Roberts
;
D.-L. Kwong
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
14.
DEVELOPMENT OF AN RTA PROCESS FOR THE ENHANCED CRYSTALLIZATION OF AMORPHOUS SILICON THIN FILMS
机译:
增强非晶硅薄膜结晶化的RTA工艺开发
作者:
Y.-G. Yoon
;
T.-K. Kim
;
G.-B. Kim
;
J.-Y. Choi
;
B.-I. Lee
;
S.-K. Joo
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
15.
ELECTRICAL AND MATERIAL PROPERTIES OF METAL SILICATE DIELECTRICS AND METAL GATE ELECTRODES FOR ADVANCED CMOS DEVICES
机译:
先进CMOS器件的金属硅酸盐介质和金属栅电极的电气和材料性能。
作者:
Veena Misra
;
Manoj Kulkarni
;
Greg Heuss
;
Huicai Zhong
;
Heather Lazar
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
16.
GROWTH OF ULTRATHIN NITRIDE ON Si (100) BY RAPID THERMAL N_2 TREATMENT
机译:
快速N_2处理超氮化物在Si(100)上的生长。
作者:
Z. H. Lu
;
A. Khoueir
;
W. T. Ng
;
S. P. Tay
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
17.
RTCVD POLYSILICON GRAIN DIMENSION CONTROL
机译:
RTCVD多晶硅颗粒尺寸控制
作者:
D. L. OMeara
;
J. Conner
;
H. Tseng
;
M. Rossow
;
T. Neil
;
V. Wang
;
C. L. Chang
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
18.
SPIKE ANNEALING FOR ULTRA-SHALLOW JUNCTION FORMATION
机译:
超浅结形成的尖峰退火
作者:
Amitabh Jain
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
19.
ULTRA-SHALLOW P~+-N JUNCTIONS FOR 35-70 NM CMOS USING SELECTIVELY DEPOSITED VERY HEAVILY BORON-DOPED SILICON-GERMANIUM FILMS
机译:
使用选择性沉积的极重掺杂硼的硅锗薄膜对35-70 NM CMOS的超浅P〜+ -N结
作者:
Shyam Gannavaram
;
Mehmet C. Oeztuerk
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
20.
ULTRATHIN CVD GATE DIELECTRICS FOR 130 NM TECHNOLOGY NODE
机译:
适用于130 NM技术节点的超薄CVD栅介质
作者:
V.H.C. Watt
;
A. Karamcheti
;
T.Y. Luo
;
H.N. Al-Shareef
;
M.D. Jackson
;
H.R. Huff
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
21.
ULTRATHIN (EOT < 7 A) Ta_2O_5 GATE STACKS PREPARED BY AN IN-SITU RT-MOCVD PROCESS
机译:
原位RT-MOCVD工艺制备的超薄(EOT <7 A)Ta_2O_5门禁壁
作者:
S. J. Lee
;
H. F. Luan
;
C. H. Lee
;
Y. Senzaki
;
D. Roberts
;
D.-L. Kwong
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
22.
WAFER TEMPERATURE CHARACTERIZATION DURING LOW-TEMPERATURE ANNEALING
机译:
低温退火过程中晶片的温度特性
作者:
Woo Sik Yoo
;
Takashi Fukada
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
23.
ULTRA-SHALLOW JUNCTION FORMATION USING ION IMPLANTATION AND RAPID THERMAL ANNEALING: PHYSICAL AND PRACTICAL LIMITS
机译:
使用离子注入和快速热退火的超浅结形成:物理和实际限制
作者:
Aditya Agarwal
;
H.-J. L. Gossmann
;
A. T. Fiory
;
V. C. Venezia
;
D. C. Jacobson
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
24.
GATE DIELECTRICS FORMED BY REMOTE PLASMA NITRIDATION OF ULTRATHIN IN-SITU STEAM GENERATED (ISSG) OXIDES
机译:
超薄原位蒸汽发生氧化物远程等离子体氮化形成的门电
作者:
H.N. Al-Shareef
;
T.Y. Luo
;
A. Karamcheti
;
G.A. Brown
;
M. Laughery
;
V.H.C. Watt
;
K. Torres
;
M.D. Jackson
;
H.R. Huff
;
K. Ahmed
;
R. Jallepally
;
D. Noble
;
N. Tarn
;
G. Miner
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
25.
HIGH PERFORMANCE, HIGHLY RELIABLE GATE OXIDE FORMED WITH RAPID THERMAL OXIDATION IN-SITU STEAM GENERATION (ISSG) TECHNIQUE
机译:
通过快速热氧化原位蒸汽发生(ISSG)技术制成的高性能,高可靠性门氧化物
作者:
Y. Ma
;
Y. N. Chen
;
M. M. Brown
;
F. Li
;
Y. Chen
;
J. Eng
;
R. L. Opila
;
Y. J. Chabal
;
J. Sapjeta
;
D. A. Muller
;
G.C.Xing
;
T. Trowbridge
;
M. Khau
;
N. Tam
会议名称:
《》
|
2000年
26.
IMPROVED PERFORMANCE OF A FAST-RAMP RTA SYSTEM THROUGH RECIPE AND CONTROLLER OPTIMIZATION
机译:
通过配方和控制器优化提高了快速RAM RTA系统的性能
作者:
Sundar Ramamurthy
;
Abhilash Mayur
;
Dick de Roover
;
Jon L. Ebert
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
27.
HIGH PERFORMANCE BURIED SILICON-GERMANIUM CHANNEL PMOST FABRICATED USING RAPID THERMAL PROCESSING AND SHALLOW TRENCH ISOLATION
机译:
快速热处理和浅沟槽隔离可实现高性能的潜伏硅锗通道
作者:
Douglas J. Tweet
;
Sheng Teng Hsu
;
David R. Evans
;
Bruce Ulrich
;
Yoshi Ono
;
Lisa Stecker
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
28.
INHERENT RADIATIVE DIFFERENCES BETWEEN RAPID THERMAL AND FURNACE ANNEALING: THEIR EFFECTS ON DOPANT DIFFUSION AND ACTIVATION
机译:
快速热和炉退火之间的固有辐射差异:它们对掺杂剂扩散和活化的影响
作者:
Philip Sung-Joon Choi
;
Dim-Lee Kwong
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
29.
INVESTIGATION OF IN-SITU STEAM GENERATED (ISSG) OXIDE FOLLOWED BY REMOTE PLASMA NITRIDATION FOR EFFECTIVE OXIDE THICKNESS DECREASE AND GATE LEAKAGE REDUCTION
机译:
远程等离子体硝化后原位产生的(ISSG)氧化物的研究,以有效降低氧化物厚度并减少门泄漏
作者:
Kwame Eason
;
Ravi Jallepally
;
David Noble
;
Sunil Hattangady
;
Rajesh Khamankar
;
Antonio L.P. Rotondaro
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
30.
IN SITU SELECTIVITY AND THICKNESS MONITORING BASED ON QUADRUPOLE MASS SPECTROSCOPY DURING SELECTIVE SILICON EPITAXY
机译:
基于选择性硅外延的四极杆质谱的现场选择性和厚度监测
作者:
E.A. Rying
;
G.L. Bilbro
;
M.C. Oeztuerk
;
J.C. Lu
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
31.
EXPLORING ALTERNATE ANNEALING METHODS FOR SHALLOW JUNCTION FORMATION IN ION IMPLANTED SILICON
机译:
探索离子注入硅中浅结形成的另一种退火方法
作者:
Kevin S. Jones
;
Heather Banisaukas
;
Susan Earles
;
C. Lindfors
;
M. Griglione
;
M.E. Law
;
S. Talwar
;
Scott W. Falk
;
Dan F. Downey
;
A. Agarwal
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
32.
ROLE OF SILICON AND BORON INTERSTITIAL CLUSTERS IN TRANSIENT ENHANCED DIFFUSION
机译:
硅和硼间隙团簇在瞬态增强扩散中的作用
作者:
N.E.B.Cowern
;
G.Mannino
;
F.Roozeboom
;
J.G.M.van Berkum
;
B.Colombeau
;
A.Claverie
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
33.
SELECTIVE EPITAXIAL SI AND SIGE FOR ELEVATED SOURCE DRAIN MOSFETS
机译:
提升型源极漏极MOSFET的选择性EP SI和SIGE
作者:
S. B. Samavedam
;
A. Dip
;
A. M. Phillips
;
J. Smith
;
J. M. Grant
;
W. J. Taylor
;
P. J. Tobin
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
34.
TEMPERATURE GRADIENT RAPID THERMAL PROCESSOR
机译:
温度梯度快速热处理器
作者:
J-M. Dilhac
;
C. Ganibal
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
35.
SPIKE THERMAL PROCESSING USING ARC-LAMPS
机译:
使用弧光灯进行尖峰热处理
作者:
D.M. Camm
;
M.E. Lefrancois
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
36.
ATHERMAL ANNEALING OF SILICON IMPLANTED WITH PHOSPHORUS AND ARSENIC
机译:
磷和砷注入硅的热退火
作者:
J. Grun
;
R.P. Fischer
;
M. Peckerar
;
C. L. Felix
;
B.C. Covington
;
D. W. Donnelly
;
B. Boro Djordjevic
;
R. Mignogna
;
J.R. Meyer
;
A. Ting
;
C. K. Manka
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
37.
ULTRA-SHALLOW JUNCTION FORMATION OF BF_2~+ IMPLANTS USING A LOW-PRESSURE, HOT-WALL RAPID THERMAL PROCESSOR
机译:
低压热壁快速热处理器对BF_2〜+注入物的超浅结形成
作者:
Vijay Parihar
;
Ashur J. Atanos
;
Kiran Reddy
;
Jean-Francois Daviet
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
38.
HIGH-K OXIDES BY ATOMIC LAYER CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION
机译:
原子层化学气相沉积法测定高钾氧化物
作者:
M. Tuominen
;
T. Kanniainen
;
S. Haukka
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
39.
HIGHLY RELIABLE IN SITU STEAM GENERATION PROCESS FOR 1.5-2.5 NM GATE OXIDES
机译:
1.5-2.5 NM门氧化物的高度可靠的原位蒸汽生成过程
作者:
M. Bidaud
;
F. Guyader
;
F. Glowacki
;
F. Monsieur
;
D. Roy
;
S. Bruyere
;
E. Vincent
;
K. Barla
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
|
2000年
40.
HIGH RAMP RATE RAPID THERMAL ANNEALING FOR ULTRA-SHALLOW JUNCTIONS
机译:
超斜率结的高升温速率快速热退火
作者:
P.Kohli
;
Hong-Jyh Li
;
S.Ganguly
;
T.Kirichenko
;
B.Murto
;
E.Graetz
;
P.Zeitzoff
;
M.Pawlik
;
P.B.Merrill
;
S.Banerjee
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
41.
KINETIC STUDY OF IN-SITU COPPER OXIDATION AND REDUCTION USING RAPID THERMAL PROCESSING AND ITS APPLICATIONS IN ULSI
机译:
快速热加工原位铜氧化还原的动力学研究及其在超大规模集成电路中的应用
作者:
Yao Zhi Hu
;
Rahul Sharangpani
;
Sing-Pin Tay
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
42.
IN-SITU RAPID THERMAL N_2O OXIDATION OF NH_3-NITRIDED Si FOR ULTRATHIN NITRIDE/OXIDE STACK GATE FORMATION
机译:
NH_3-氮化硅的原位快速热N_2O氧化形成超薄氮化物/氧化物叠层门
作者:
Y. H. Kim
;
S. C. Song
;
H. F. Luan
;
J.C. Gelpey
;
A. Kepton
;
S. Levy
;
R. Bloom
;
D.-L. Kwong
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
43.
METAL / SILICON SCHOTTKY BARRIER LOWERING BY RTCVD INTERFACE PASSIVATION
机译:
RTCVD界面钝化处理金属/硅肖特基势垒
作者:
Q. W. Ren
;
W.D. van Noort
;
L.K. Nanver
;
J.W. Slotboom
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
44.
LOW TEMPERATURE MEASUREMENTS AND MONITORS FOR RAPID THERMAL PROCESSING
机译:
快速热加工的低温测量和监控
作者:
P. J. Timans
;
N. Acharya
;
I. Amarilio
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
45.
LEVITOR 4000: AN ADVANCED RTP SYSTEM BASED ON CONDUCTIVE HEAT TRANSFER
机译:
LEVITOR 4000:基于导热换热的先进RTP系统
作者:
V.I. Kuznetsov
;
A.B. Storm
;
G.J. Snijders
;
C. de Ridder
;
T.A.M. Ruijl
;
J.C.G. v.d. Sanden
;
E.H.A. Granneman
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
46.
OPTIMIZATION AND CONTROL OF GAS FLOWS IN AN RTCVD REACTOR
机译:
RTCVD反应器中气流的优化与控制
作者:
Yu. P. Rainova
;
K. I. Antonenko
;
A.V. Barchotkin
;
J. Pezoldt
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
47.
OPTICAL EFFECTS IN DIFFUSION AND ACTIVATION PROCESSES DURING RTA
机译:
RTA期间扩散和激活过程的光学效应
作者:
R. B. Fair
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
48.
NEW PHYSICS FOR MODELING TRANSIENT ENHANCED DIFFUSION IN RTP
机译:
RTP中瞬态增强扩散建模的新物理
作者:
M. Y. L. Jung
;
R. Gunawan
;
R. D. Braatz
;
E. G. Seebauer
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies, May 14-18, 2000, Toronto, Canada》
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2000年
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