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Syposium on Atomic Layer Deposition Applications
Syposium on Atomic Layer Deposition Applications
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1.
Stress Reduction of Ge{sub}2Sb{sub}2Te{sub}5 Crystallization by Capping Al{sub}2O{sub}3 Film Grown by PEALD
机译:
通过覆盖Al {sub} 2o {sub} 3通过PEAL生长的电影{sub} 2sb {sub} 2的应力减小。
作者:
Young Sam Park
;
Jung Wook Lim
;
Woo Seok Yang
;
Seung Yun Lee
;
Sung Min Yoon
;
Byoung Gon Yu
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
2.
Savannah ALD Systems: Enabling Quick Results
机译:
Savannah ALD系统:快速效果
作者:
Douwe J. Monsma
;
Jill S. Becker
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
3.
ALD Capping Layers for Superconducting Radio Frequency Accelerator Cavities
机译:
用于超导射频加速器腔的ALD覆盖层
作者:
M. J. Pellin
;
J. W. Elam
;
J. F. Moore
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
4.
A Silicon Nitride MIM Capacitor for Analog/Mixed-Signal Integrated Circuit using Manufacturable Atomic Layer Deposition Equipment
机译:
用于模拟/混合信号集成电路的氮化硅MIM电容,使用制造原子层沉积设备
作者:
Toshio Ando
;
Yosuke Ohta
;
Hiroshi Ashihara
;
Toshinori Imai
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
5.
Oxidant Effect on Resistance Switching Characteristics of HfO{sub}2 film Grown Atomic Layer Deposition
机译:
HFO {Sub} 2膜生长原子层沉积氧化作用对电阻切换特性
作者:
In-Sung Park
;
Jooho Lee
;
Seungki Yoon
;
Keum Jee Chung
;
Sunwoo Lee
;
Jungho Park
;
Chang Kyung Kim
;
Jinho Ahn
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
6.
Evaluation of novel Sr precursors for Atomic Layer Deposition of SrO thin film
机译:
SRO薄膜原子层沉积新型SR前体的评价
作者:
Ki-Chul Kim
;
Kyuho Cho
;
Kwanghee Lee
;
Younsoo Kim
;
Jae Hyoung Choi
;
Jae-Soon Lim
;
Jin Yong Kim
;
Wan-Don Kim
;
Oh Seong Kwon
;
Yong Suk Tak
;
Jeong-Hee Chung
;
Young-Sun Kim
;
Sung-Tae Kim
;
Woosung Han
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
7.
Fabrication of Nanoscale Tubular Structures and Capsules of Oxides by Atomic Layer Deposition (ALD)
机译:
用原子层沉积制备纳米级管状结构和氧化物胶囊(ALD)
作者:
Changduck Bae
;
Shihyeong Kim
;
Hyunjung Shin
;
Jiyoung Kim
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
8.
Application of Atomic Layer Deposition for Gas Permeation Barrier Thin Films
机译:
原子层沉积对气体渗透屏障薄膜的应用
作者:
P. F. Carcia
;
R. S. McLean
;
M. D. Groner
;
A. Dameron
;
S. George
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
9.
Electrodeposition of PbS Multilayers on Ag(111) by ECALE
机译:
通过eAGALE对AG(111)的PBS多层电沉积
作者:
V. C. Fernandes
;
E. Salvietti
;
F. Loglio
;
M. Innocenti
;
L. H. Mascaro
;
M. L. Foresti
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
10.
Large Scaled ALD/PECVD Reactor for Flat Panel Display Application
机译:
用于平板显示应用的大型缩放ALD / PECVD电抗器
作者:
Kazutoshi Murata
;
Keisuke Washio
;
Naomasa Miyatake
;
Yasunari Mori
;
Hiroyuki Tachibana
;
Yukiharu Uraoka
;
Takashi Fuyuki
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
11.
Spatially Controlled Atomic Layer Deposition in Porous Membranes
机译:
多孔膜中的空间控制的原子层沉积
作者:
J. W. Elam
;
J. A. Libera
;
P. C. Stair
;
M. J. Pellin
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
12.
Nanomechanical Properties of High-k Dielectrics Grown by Atomic Layer Deposition
机译:
原子层沉积生长的高k电介质的纳米力学性能
作者:
K. Tapily
;
J. Jakes
;
D. S. Stone
;
P. Shrestha
;
D. Gu
;
H. Baumgart
;
A. A. Elmustafa
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
13.
An ab initio Evaluation of Cyclopentadienyl Precursors for the Atomic Layer Deposition of Hafnia and Zirconia
机译:
Hafnia和氧化锆原子层沉积的环戊二烯基前体的AB Initio评价
作者:
Aleksandra Zydor
;
Simon D. Elliott
;
Thomas Leese
;
Fuquan Song
;
Simon Rushworth
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
14.
Tuning Absolute Band Gap of Silicon Photonic Crystals by Atomic Layer Deposition (ALD) Interfacial Layers
机译:
用原子层沉积调节硅光子晶体的绝对带隙(ALD)界面层
作者:
M. Thitsa
;
D. Gu
;
H. Baumgart
;
S. Albin
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
15.
Aqueous Ge Atomic Layer Deposition on Au
机译:
Au上的GE原子层沉积
作者:
Xuehai Liang
;
Nagarajan Jayaraju
;
J. L. Stickney
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
16.
Low Temperature Deposition of Ge Thin Films with a Ge(II) Silylamido Source
机译:
GE薄膜用GE(II)Silylamido来源的低温沉积
作者:
Tianniu Chen
;
Chongying Xu
;
William Hunks
;
Matthias Stender
;
Gregory T. Stauf
;
Philip S. Chen
;
Jeffrey F. Roeder
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
17.
Ultra- Thin Conformal Pore-sealing of Low-k Materials by Plasma-Activated Atomic Layer Deposition
机译:
通过等离子体活性原子层沉积超薄的低K材料的超薄保形孔密封
作者:
Joseph L. Cecchi
;
C. Jeffrey Brinker
;
Ying-Bing Jiang
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
18.
Ferromagnetic Nanostructures by Atomic Layer Deposition: From Thin Films towards Core-shell Nanotubes
机译:
原子层沉积铁磁纳米结构:从薄膜朝向核心壳纳米管
作者:
M. Daub
;
J. Bachmann
;
J. Jing
;
M. Knez
;
U. Gosele
;
S. Barth
;
S. Mathur
;
J. Escrig
;
D. Altbir
;
K. Nielsch
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
19.
Copper Nano Film Formation Using Electrochemical ALD
机译:
使用电化学ALD铜纳米膜形成
作者:
C. Thambidurai
;
N. Jayaraju
;
Y. G. Kim
;
J. L. Stickney
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
20.
Deposition of TiN and TaN by Remote Plasma ALD for Diffusion Barrier Applications
机译:
通过远程等离子体ALD沉积锡和TAN进行扩散阻挡应用
作者:
H. C. M. Knoops
;
L. Baggetto
;
E. Langereis
;
M. C. M. van de Sanden
;
J. H. Klootwijk
;
F. Roozeboom
;
R. A. H. Niessen
;
P. H. L. Notten
;
W. M. M. Kessels
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
21.
Molecular Layer Deposition of Organic and Hybrid Organic-Inorganic Films
机译:
有机和杂交有机 - 无机膜的分子层沉积
作者:
Steven M. George
;
Arrelaine A. Dameron
;
Yijun Du
;
Nicole M. Adamczyk
;
Stephen D. Davidson
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
22.
ALD La-based Oxides for V{sub}t-tuning in High-k/Metal Gate Stacks
机译:
高k /金属栅极堆叠中的V {Sub} T-TUINGING的基于ALD LA的氧化物
作者:
J. Swerts
;
Y. Fedorenko
;
J. W. Maes
;
E. Tois
;
A. Delabie
;
L.-A. Ragnarsson
;
H. Y. Yu
;
L. Nyns
;
C. Adelmann
;
S. Van Elshocht
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
23.
In-situ FTIR Study of Atomic Layer Deposition (ALD) of Copper Metal Films
机译:
原位FTIR研究铜金属膜原子层沉积(ALD)
作者:
Min Dai
;
Jinhee Kwon
;
Erik Langereis
;
Leszek Wielunski
;
Yves J. Chabal
;
Zhengwen Li
;
Roy. G. Gordon
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
24.
Developments in the Understanding of ALD Processes and Applications of ALD in Critical Technologies: Part 1: Near IR Diode Laser Spectroscopy as a Probe of ALD Chemistry Part 2: The Synthesis of novel Semiconductor-Based Photonic crystals
机译:
理解ALD过程和ALD在关键技术中的应用的发展:第1部分:近红外二极管激光光谱作为ALD化学部分2的探针:新型半导体的光子晶体的合成
作者:
Martyn E. Pemble
;
Ian M. Povey
;
Francis Chalvet
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
25.
Implementing ALD Layers in MEMS processing
机译:
在MEMS处理中实现ALD层
作者:
R. L. Puurunen
;
J. Saarilahti
;
H. Kattelus
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
26.
Integration of Electrochemically deposited Cu on Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition-grown Cu seed Layers
机译:
电化学沉积Cu对等离子体增强原子层沉积Cu种子层的整合
作者:
L. Wu
;
W. Zeng
;
E. Eisenbraun
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
27.
Effect of Nitridation for High-K layers by ALCVD in order to decrease the Trapping in Non Volatile Memories
机译:
ALCVD对高k层氮化的影响,以减少非易失性存储器的诱捕
作者:
H. Grampeix
;
J.-P. Colonna
;
G. Molas
;
M. Bocquet
;
F. Martin
;
N. Rochat
;
E. Martinez
;
C. Licitra
;
T. Veyron
;
A.-M. Papon
;
M. Gely
;
K. Yckache
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
28.
Atomic Layer Deposition for CMOS Scaling: High-k Gate Dielectrics on Si, Ge, and III-V Semiconductors
机译:
CMOS缩放的原子层沉积:Si,Ge和III-V半导体上的高k栅极电介质
作者:
Martin M. Frank
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
29.
Atomic Layer Deposition of Hafnium Based Gate Dielectric Layers for CMOS Applications
机译:
用于CMOS应用的铪基介电层的原子层沉积
作者:
A. Delabie
;
L. Nyns
;
F. Bellenger
;
M. Caymax
;
T. Conard
;
A. Franquet
;
M. Houssa
;
D. Lin
;
M. Meuris
;
L.-A. Ragnarsson
;
S. Sioncke
;
J. Swerts
;
Y. Fedorenko
;
J. W. Maes
;
S. Van Elshocht
;
S. De Gendt
会议名称:
《Syposium on Atomic Layer Deposition Applications》
|
2007年
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