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Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures
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1.
Electrodeposition of Cu+PdO and (Cu-Pd)+PdO Composites
机译:
Cu + PdO和(Cu-Pd)+ PdO复合材料的电沉积
作者:
Enrico Verlato
;
Sandro Cattarin
;
Nicola Comisso
;
Rosalba Gerbasi
;
Paolo Guerriero
;
et al
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
2.
Influence of Particle Surface Potential on Electrocodeposition of BaSO_4 : a ζ-potential Study
机译:
粒子表面电位对BaSO_4电共沉积的影响:ζ电位研究
作者:
D. Soccol
;
C. N. Ngoy
;
S. Claessens
;
J. Fransaer
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
3.
Fundamentals and Applications of Electrophoretic Deposition
机译:
电泳沉积的基本原理和应用
作者:
Jan B. Talbot
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
4.
One-Step Electrodeposited Cu-In-Ga Thin Films and Cu(In,Ga)Se_2 Absorber Synthesis for Solar Cells
机译:
一步法电沉积Cu-In-Ga薄膜和Cu(In,Ga)Se_2吸收剂的太阳能电池合成
作者:
L. Ribeaucourt
;
E. Chassaing
;
G. Savidand
;
D. Lincot
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
5.
Morphology, Structure and Photo-electro-catalytic Activity of TiO_2/WO_3 Coatings Obtained by Pulsed Electrodeposition onto Stainless Steel
机译:
脉冲电沉积在不锈钢上获得的TiO_2 / WO_3涂层的形貌,结构和光电催化活性
作者:
E. Valova
;
J. Georgieva
;
S. Armyanov
;
S. Sotiropoulos
;
A. Hubin
;
et al
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
6.
Double-sided mesoporous silicon with embedded quasi-regular arranged ferromagnetic nanostructures fabricated by electrodeposition
机译:
电沉积制备的具有嵌入准规则排列铁磁纳米结构的双面介孔硅
作者:
P. Granitzer
;
K. Rumpf
;
M. Albu
;
P. POlt
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
7.
Semiconductor Hybrid Structure: Nanowires Embedded in a Matrix from the Same Material
机译:
半导体混合结构:用相同的材料将纳米线嵌入矩阵中
作者:
Marian Sima
;
Eugeniu Vasile
;
Mariana Sima
;
Elena Matei
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
8.
Electrografting of Organic Monolayers on Planar and Nanowire Silicon Substrates
机译:
平面和纳米线硅基板上的有机单分子层的电接枝
作者:
S. S. S. Vegunta
;
J. N. Ngunjiri
;
W. Xu
;
J. C. Flake
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
9.
Growth and Characterization of ZnO:Mn Submicron Wires via Electrodeposition from Nitrate-Lactic Acid Solution
机译:
硝酸乳酸溶液电沉积生长ZnO:Mn亚微米线及其表征
作者:
Mariana Sima
;
Maria Nicoleta Grecu
;
Marian Sima
;
Ionut Enculescu
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
10.
Adhesive Metal Film Formation on Silicon by Electroless Deposition Using Catalytic Anchors
机译:
催化锚化学沉积在硅上形成粘附性金属膜
作者:
Shinji Yae
;
Tatsuya Hirano
;
Keisuke Sakabe
;
Naoki Fukumuro
;
Hitoshi Matsuda
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
11.
High Temperature Phase Transitions Observed in Oxygen Deficient TiO_2-x Thin Films
机译:
缺氧TiO_2-x薄膜中观察到高温相变
作者:
V. G. Bessergenev
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
12.
Relation Between the Morphology of Electrodeposited ZnO Films and the Efficiency of Dye-Sensitized Solar Cells
机译:
电沉积ZnO薄膜的形貌与染料敏化太阳能电池效率之间的关系
作者:
F. I. Lizama Tzec
;
G. Oskam
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
13.
Corrosion Resistance, Morphological and Electrical Properties of Electroless Ni-Mo-P thin films deposited on Ceramic and Kapton Substrates
机译:
沉积在陶瓷和Kapton衬底上的化学镀Ni-Mo-P薄膜的耐蚀性,形态和电学性质
作者:
M.D. Reyes-Tolosa
;
E.E. Kalu
;
J. Orozco-Messana
;
A. Erb
;
P. N. Kalu
;
et al
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
14.
Electrochemically Formed Porous Silica as a Template for Metal Electrodeposition
机译:
电化学形成的多孔二氧化硅作为金属电沉积的模板
作者:
J.-N. Chazalviel
;
F. Ozanam
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
15.
Fine-line Patterning of Transparent Ga-doped ZnO Thin Films by Wet-etching
机译:
湿法刻蚀透明掺杂Ga的ZnO薄膜的细线构图
作者:
Naoki Yamamoto
;
Satoshi Okabe
;
Masahide Matsubara
;
Taketo Maruyama
;
Hisao Makino
;
et al
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
16.
Direct Cu-on-Ta Electroplating From Ionic Liquids In High Vacuum
机译:
在高真空下从离子液体直接电镀铜钽钽
作者:
Stijn Schaltin
;
Shkurankov
;
Koen Binnemans
;
Jan Fransaer
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
17.
Impact of 'Terminal Effect' on Cu Plating: Theory and Experimental Evidence
机译:
“终端效应”对镀铜的影响:理论和实验证据
作者:
Silvia Armini
;
Philippe M. Vereecken
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
18.
Electrodeposition of Ni/Co and Ni Magnetic Nanowires using Allumina Template
机译:
使用Allumina模板电沉积Ni / Co和Ni磁性纳米线
作者:
P. Cojocaru
;
F. Muscolino
;
L. Magagnin
;
M. Vazquez
;
G. Badini-Confalonier
;
et al
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
19.
Electrocatalytic Properties of a Novel Platinumpolytyramine Composite Electrode Material
机译:
新型铂聚酪胺复合电极材料的电催化性能
作者:
T. Spataru
;
M. Marcu
;
N. Spataru
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
20.
Electrodeposition of Silicon Thin Films from Ionic Liquids
机译:
离子液体对硅薄膜的电沉积
作者:
A. M. Martinez
;
K. S. Osen
;
O. E. Kongstein
;
E. Sheridan
;
A. Ulyashin
;
et al
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
21.
Electrodeposition of Te and Cu Thin Films on Boron Doped Diamond (BDD) Electrode
机译:
硼掺杂金刚石(BDD)电极上的Te和Cu薄膜的电沉积
作者:
V. C. Fernandes
;
J. T. Matsushima
;
M. R. Baldan
;
A. F. Azevedo
;
M. Linardi
;
et al
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
22.
Electrodeposition of Copper in Trenches From a Citrate Plating Bath
机译:
从柠檬酸盐电镀液中电沉积沟槽中的铜
作者:
F. I. Lizama Tzec
;
G. Oskam
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
23.
Copper Plating on Resistive Substrates, Diffusion Barrier and Alternative Seed Layers
机译:
在电阻性基底,扩散阻挡层和其他种子层上镀铜
作者:
A. Radisic
;
M. Nagar
;
K. Strubbe
;
S. Armini
;
Z. El-Mekki
;
et al
会议名称:
《Semiconductors, metal oxides, and composites: Metallization and electrodeposition of thin films and nanostructures》
|
2009年
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