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Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V
Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V
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1.
Strategies for Nanoscale Contour Metrology using Critical Dimension Atomic Force Microscopy
机译:
使用临界尺寸原子力显微镜的纳米级轮廓计量策略。
作者:
Ndubuisi G. Orji
;
Ronald G. Dixson
;
Andras E. Vladar
;
Michael T. Postek
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
contour metrology;
critical dimension atomic force microscope;
scanning electron microscope.;
2.
Rapid Defect Detections of bonded wafer using Near Infrared Polariscope
机译:
使用近红外偏振镜快速检测键合晶圆的缺陷
作者:
Chi Seng Ng
;
Anand K. Asundi
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
3.
Sidewall Slope Sensitivity of CD-AFM
机译:
CD-AFM的侧壁坡度灵敏度
作者:
Aaron Cordes
;
Benjamin Bunday
;
Eric Cottrell
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
AFM;
metrology;
CD;
SWA;
profile measurement;
linewidth;
reference measurement system;
4.
Development of Cavity Ring-down Ellipsometry with spectral and submicrosecond time resolution
机译:
具有光谱和亚微秒时间分辨率的腔衰荡椭偏仪的开发
作者:
Vassilis Papadakis
;
Michael A. Everest
;
Katerina Stamataki
;
Stelios Tzortzakis
;
Benoit Loppinet
;
T. Peter Rakitzis
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
ellipsometry;
cavity ring down;
evanescent wave;
5.
Whole field curvature and residual stress determination of silicon wafers by Reflectometry
机译:
反射法测定硅片的全场曲率和残余应力
作者:
Chi Seng Ng
;
Anand K. Asundi
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
6.
Common-path Laser Encoder System for Nanopositioning
机译:
用于纳米定位的共径激光编码器系统
作者:
Chyan-Chyi Wu
;
Cheng-Chih Hsu
;
Ju-Yi Lee
;
Chun-Yao Cheng
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
common-path;
laser encoder;
interference;
grating;
nanopositioning;
7.
Light confinement by structured metal tips for antenna-based scanning near-field optical microscopy
机译:
通过结构化金属尖端进行的光限制,用于基于天线的扫描近场光学显微镜
作者:
Joachim D. Jambreck
;
Miriam Boehmler
;
Mathias Rommel
;
Achim Hartschuh
;
Anton J. Bauer
;
Lothar Frey
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
nanophotonics;
local field enhancement;
scanning near-field optical microscopy;
tip-enhanced snom;
light confinement;
tip-enhanced raman spectroscopy;
focused ion beam;
8.
Nanoparticles and metrology: a comparison of methods for the determination of particle size distributions
机译:
纳米粒子与计量学:确定粒径分布的方法的比较
作者:
Victoria A. Coleman
;
Asa K. Jaemting
;
Heather J. Catchpoole
;
Maitreyee Roy
;
Jan Herrmann
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
nanoparticle;
nanometrology;
dynamic light scattering;
differential centrifugal sedimentation;
micro-channel resonator;
transmission electron microscopy;
9.
Linear Variable Filter based Oil Condition Monitoring Systems for Offshore Windturbines
机译:
基于线性变量过滤器的海上风机状态监测系统
作者:
Benjamin R. Wiesent
;
Daniel D. Dorigo
;
OEzlem Simsek
;
Alexander W. Koch
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
linear variable filter;
LVF;
infrared miniature spectrometers;
oil condition monitoring;
IR spectroscopy;
10.
Two-photon fluorescence near-field pH measurement for mitochondria activity
机译:
两光子荧光近场pH测量线粒体活性
作者:
Y. Kanazashi
;
Y. Li
;
T. Onojima
;
K. Iwami
;
Y. Ohta
;
N. Umeda
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
SNOM;
two-photon fluorescence excitation;
near-field;
ph;
mitochondria;
ATP;
ratiometry;
necrotic cell death;
11.
IR nanoscale spectroscopy and imaging
机译:
红外纳米光谱学和成像
作者:
Eamonn Kennedy
;
Fiona Yarrow
;
James H Rice
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
infrared imaging;
AFM imaging;
proteins;
12.
Verification of scatterometer design
机译:
验证散射仪设计
作者:
Wenjing Zhao
;
Cornelius Hahlweg
;
Hendrik Rothe
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
scatterometry;
elliptical mirror;
catoptrical;
catadioptrical;
dioptrical;
caustic;
scheimpflug principle;
spot size;
coordinate transformation;
grating equation;
13.
Laser based imaging of time depending microscopic scenes with strong light emission
机译:
基于激光的时间依赖性微观场景的成像,具有强光发射
作者:
Cornelius Hahlweg
;
Eugen Wilhelm
;
Hendrik Rothe
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
laser;
high speed imaging;
schlieren;
diffraction;
fourier optics;
filtering;
14.
See-through-silicon Inspection Application Studies Based on Traditional Silicon Imager
机译:
基于传统硅成像仪的透明硅检测应用研究
作者:
Wei Zhou
;
Darcy Hart
;
Noah Bock
;
Rolf Shervey
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
15.
High precision surface-profile metrology by scanning the repetition rate of femtosecond pulses
机译:
通过扫描飞秒脉冲的重复率进行高精度的表面轮廓计量
作者:
Woo-Deok Joo
;
Young-Jin Kim
;
Yunseok Kim
;
Jiyoung Park
;
Seung-Woo Kim
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
surface profile;
interferometry;
femtosecond pulses;
16.
Challenges and Opportunities in Nanomanufacturing
机译:
纳米制造的挑战与机遇
作者:
Khershed P. Cooper
;
Ralph F. Wachter
会议名称:
《Instrumentation, metrology, and standards for nanomanufacturing, optics, and semiconductors V》
|
2011年
关键词:
nanomaterials;
nanopatterning;
nanostructures;
direct digital nanomanufacturing;
system-level integration;
high-speed nanomanufacturing;
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