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Recent progress in high resolution lithography

机译：高分辨率光刻的最新进展

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The nanotechnology revolution of the past decade owes much to the science of lithography, an umbrella term which encompasses everything from conventional photolithography to "unconventional" soft lithography and the self-assembly of block polymers. In this review, some of the recent advances in lithography are summarized with special reference to the microelectronics industry. The next generation photolithography, two-photon lithography, step-and-flash imprint lithography and nanofabrfcation using block copolymers are covered, in an attempt to describe more recent work in this vibrant and active field of research.
机译：过去十年中的纳米技术革命在很大程度上得益于光刻技术，这是一个笼统的术语，涵盖了从常规光刻到“非常规”软光刻以及嵌段聚合物自组装的所有内容。在这篇综述中，总结了光刻技术的一些最新进展，并特别参考了微电子行业。涵盖了使用嵌段共聚物的下一代照相平版印刷术，双光子平版印刷术，分步闪光印刷平版印刷术和纳米制造，以试图描述这一活跃而活跃的研究领域中的最新工作。

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