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【24h】

PLASMA POLYMER DEPOSITION FROM MIXTURE OF TETRAMETHOXYSILANE AND OXYGEN ON PET FILMS AND THEIR OXYGEN GAS BARRIER PROPERTIES

机译：PET膜上四甲基甲硅烷与氧气混合的等离子体聚合物沉积及其氧气阻气性

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Plasma polymerization of silane compounds has been discussed for deposition of SiOx positron emission tomography (PET) films at room temperature. A mixture of tetramethoxysilane (TMOS) and oxygen containing 60 mol % O-2 is a preferable raw material for SiOx formation by plasma polymerization. The deposited plasma polymers consist mainly of Si-O networks with small amount of Si-OH and Si-C groups. A part of Si-O networks in the plasma polymers is distorted by the Si-OH and Si-C groups. The oxygen permeability coefficient for the plasma polymer itself is 2.1 x 10(-15) (STP) cm(3)/cm/cm(2)/s/cm Hg, which is lower that that for hydrolyzed ethylene-vinylacetate copolymer(Eval) and poly(vinylidene chloride) (Saran). Conclusively, the plasma polymer deposited from the mixture of TMOS and oxygen containing 60 mol % O-2 is a material with good oxygen barrier properties. (C) 1997 John Wiley & Sons, Inc. [References: 10]
机译：已经讨论了硅烷化合物的等离子体聚合，以在室温下沉积SiOx正电子发射断层扫描（PET）膜。含有60 mol％O-2的四甲氧基硅烷（TMOS）和氧气的混合物是用于通过等离子体聚合形成SiOx的优选原料。沉积的等离子体聚合物主要由具有少量Si-OH和Si-C基团的Si-O网络组成。等离子体聚合物中的一部分Si-O网络被Si-OH和Si-C基团扭曲。等离子聚合物本身的透氧系数为2.1 x 10（-15）（STP）cm（3）/ cm / cm（2）/ s / cm Hg，低于水解的乙烯-乙酸乙烯酯共聚物（Eval ）和聚偏二氯乙烯（Saran）。最后，由TMOS和含60 mol％O-2的氧气的混合物沉积的等离子体聚合物是一种具有良好的氧气阻隔性能的材料。 （C）1997 John Wiley＆Sons，Inc. [参考：10]

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