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机译:将光浸入热淬火的氢化非晶硅中
Hydrogenated amorphous silicon; Light soaking; Isothermal relaxation; A-si-h; Induced metastabilities; States;
机译:将光浸入热淬火的氢化非晶硅中
机译:机械光谱研究氢化非晶硅的光吸收效应
机译:氢化非晶硅薄膜的制备具有更高的抗光浸泡稳定性
机译:机械光谱研究对氢化无定形硅的光浸泡作用
机译:PECVD氢化非晶硅膜和HWCVD氢化非晶硅膜的质子NMR研究。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:通过光浸泡在氢化非晶硅中诱导的结构紊乱
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<辉光放电分解制备离子镀和氢化非晶硼薄膜制备氢化非晶硅薄膜及其表征>>相似的文献。最终报告,1980年4月1日至1981年5月31日