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The compensation source in nitrogen doped ZnO

机译:氮掺杂ZnO中的补偿源

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摘要

Nitrogen doped zinc oxide (ZnO) films have been prepared by molecular beam epitaxy. The as-grown samples show n-type conduction, but they convert to p-type after being annealed in O-2 atmosphere. X-ray photoelectron spectroscopy reveals that the conversion is mainly caused by the escaping of substituted N molecule (N-2)(O) donors from the films, and photoluminescence spectroscopy confirms the extraction of (N-2)(O). The work shown in this paper reveals experimentally that the main compensation source in nitrogen doped ZnO is (N-2)O donors instead of intrinsic donors or background impurities, and annealing in oxygen may be a promising route to p-ZnO.
机译:通过分子束外延制备了氮掺杂的氧化锌(ZnO)薄膜。刚生长的样品显示n型导电性,但在O-2气氛中退火后会转变为p型。 X射线光电子能谱显示该转化主要是由膜中取代的N分子(N-2)(O)供体逃逸引起的,并且光致发光光谱证实了(N-2)(O)的提取。本文显示的工作通过实验揭示了氮掺杂的ZnO的主要补偿源是(N-2)O供体,而不是本征供体或背景杂质,在氧中退火可能是制备p-ZnO的有前途的途径。

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