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机译:用于投射光刻的反射掩模,其波长为13.5 nm
机译:用于投射光刻的反射掩模,其波长为13.5 nm
机译:使用PEEM在驻波模式下对用于13.5 nm光刻的多层掩模的相缺陷检查
机译:波长为13.5 nm的EUV光刻透镜的非球面镜认证原则
机译:用于近场光刻的相位掩模的波长为441.6nm的抗反射子波长结构
机译:用于极端紫外光刻的反射罩。
机译:基于双算子的模式转移路径规划和数字掩模投影光刻的双群蚁群算法
机译:<标题>极端紫外线光刻:反射掩模技术 title>