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首页> 外文期刊>日本応用磁気学会学術講演概要集 >一液式スピンスプレー法によるGHz電磁ノイズ抑制体用Fe{sub}3O{sub}(4+δ)薄膜の作製
【24h】

一液式スピンスプレー法によるGHz電磁ノイズ抑制体用Fe{sub}3O{sub}(4+δ)薄膜の作製

机译：单组分旋转喷涂法制备用于GHz电磁噪声抑制器的Fe {sub} 3O {sub}（4 +δ）薄膜

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我々は低温(≤90℃)プロセスであるスピンスプレー法で作製したNi-Znフェライト膜を用いたGHz電磁ノイズ抑制体を開発し、その工業化を進めている。 更に次世代のフェライト薄膜電磁ノイズ抑制体として、環境規制の対象とされているNiやZnを使わないFe{sub}3O{sub}(4+δ)薄膜を用いてもGHz電磁ノイズ抑制体を実現し得ることを既に示した。 本研究では、従来の二液（反応液、酸化液）を用いるスピンスプレー方式を一液式に改めることによって、工業生産上より有利な作製怯を開発してFe{sub}3O{sub}(4+δ)薄膜を作製したところ、従来の二液法による薄膜と同等の透磁率特性を得ることができたので報告する。
机译：我们已经开发了使用通过旋转喷涂方法生产的Ni-Zn铁氧体薄膜的GHz电磁噪声抑制器，这是一种低温（≤90°C）工艺，并且正在工业化中。此外，作为下一代铁氧体薄膜电磁噪声抑制器，即使使用不受环境限制的不使用Ni或Zn的Fe {sub} 3O {sub}（4 +δ）薄膜，也可以使用GHz电磁噪声抑制器。我们已经证明了它可以实现。在这项研究中，通过将使用两种液体（反应液和氧化物液）的传统旋转喷涂方法更改为一种液体类型，我们开发了一种对工业生产和Fe {sub} 3O {sub}（当制备4 +δ）薄膜时，可以获得与通过常规的双组分方法获得的薄膜相同的磁导率特性。

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