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イオンビーム照射施設TIARAにおけるビーム技術の進展

机译：离子束辐照设备TIARA的束技术进展

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1993年、日本原子力研究所高崎研究所（現在の日本原子力研究開発機構高崎量子応用研究所）に世界初の材料科学やバイオ技術分野の研究開発専用のイオンビーム照射施設TIARAが建設された。 図－1に加速器及びそのビームラインの配置図を示す。この施設には、AVFサイクロトロン、3MVタンデム加速器、3MVシンクリレエンド加速器、そして400kVイオン注入装置の3基の静電加速器が装備され、従来の加速器施設とは異なり、一施設でそれぞれ特徴のある4種類のイオン加速器によって、水素などの車重い元素から金のような重い金属まで、多種渠頁のイオンビームを、比較的高いエネルギー領域、数万電子ボルト（数￣百k亘Ⅴ）から数億電子ボルト（数百M亘Ⅴ）までの幅広いエネルギー範囲で、材料や生物言式料に対して照射し、その表面だけではなく内部にまで深く入射させることによってその飛跡に沿った領域に導入される電離などの放射線作用を利用するさまざまな研究がおこなわれてきた。
机译：1993年，世界第一座致力于材料科学和生物技术领域研究与开发的离子束辐照设施TIARA在日本原子能研究所的高崎研究所（现为日本原子能研究与发展组织的高崎量子应用研究所）建成。图1显示了加速器及其束线的布局。该设施配备了三个静电加速器，一个AVF回旋加速器，一个3MV串联加速器，一个3MV同步百合端加速器和一个400kV离子注入装置，并且与传统的加速器设施不同，每个设施都有自己独特的4个使用从氢等重元素到金等重金属的不同类型的离子加速剂，各种涵洞页面的离子束可以在相对高的能量范围内发射，从几万个电子伏特（几百个千伏五伏）到数亿个电子伏特。在高达电子螺栓（超过数百米V）的宽泛能量范围内，它通过辐照材料和生物材料而沿轨道被引入到该区域，不仅深深地入射到表面，而且还入射到内部关于诸如电离的辐射效应的使用已经进行了各种研究。

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