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Influence of the substrate finish and thin film roughness on the optical performance of Mo/Si multilayers

机译：基板光洁度和薄膜粗糙度对Mo / Si多层膜光学性能的影响

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Scattering resulting from interface imperfections critically affects the image contrast and optical throughput of multilayer coatings for 13.5 nm. To investigate the scattering mechanisms, at-wavelength scattering measurements in combination with atomic force microscopy are analyzed for an in-depth characterization of the roughness properties. The different impacts of substrate finish and intrinsic thin film roughness on the scattering distribution are separated and analyzed in detail. Furthermore, a novel approach to characterize the roughness of large extreme ultraviolet substrates is presented, based on light scattering measurements at 442 nm.
机译：界面缺陷导致的散射严重影响了13.5 nm多层涂层的图像对比度和光通量。为了研究散射机理，结合原子力显微镜对波长散射测量进行了分析，以对粗糙度特性进行深入表征。分离并详细分析了基材光洁度和固有薄膜粗糙度对散射分布的不同影响。此外，基于442 nm处的光散射测量结果，提出了一种新颖的方法来表征大型极端紫外线衬底的粗糙度。

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