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Selective reflection technique as a probe to monitor the growth of metallic thin film on dielectric surfaces

机译:选择性反射技术作为探针来监测介电表面上金属薄膜的生长

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摘要

Controlling thin film formation is technologically challenging. The knowledge of physical properties of the film and of the atoms in the surface vicinity can help improve control over the film growth. We investigate the use of the well-established selective reflection technique to probe the thin film during its growth, simultaneously monitoring the film thickness, the atom-surface van der Waals interaction, and the vapor properties in the surface vicinity.
机译:控制薄膜形成在技术上具有挑战性。薄膜和表面附近原子的物理性质的知识可以帮助改善对薄膜生长的控制。我们研究了使用成熟的选择性反射技术来探测薄膜的生长过程,同时监测薄膜的厚度,原子表面范德华相互作用以及表面附近的蒸汽性质。

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