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Disordered antireflective subwavelength structures using Ag nanoparticles on fused silica windows

机译：在熔融石英窗上使用Ag纳米粒子的无序抗反射亚波长结构

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摘要

In this paper, we have demonstrated an effective method for fabricating disordered subwavelength structures (d-SWSs) on fused silica using thermal dewetted Ag nanoparticles at lower temperatures (<300℃) with a vacuum. Theoretically and experimentally, we investigate the effects of the film thickness, annealing temperature, and etching time on the antireflective properties of the d-SWS arrays. The measured data and calculated results obtained by rigorous coupled-wave analysis exhibit reasonably similar tendencies. For the sample with a 10-nm-thick Ag film, good optical transmission characteristics (on one side, T_(ave) ～ 95.6%) over a wide wavelength region of 500-1300 nm were obtained, and a maximum value of ～96% at a wavelength of 850 nm was also obtained. Furthermore, the d-SWSs exhibit excellent optical and thermal stability at high temperatures of 800℃ and 1000℃ compared to a conventional Ta_2O_5/SiO_2 multilayer coating.
机译：在本文中，我们证明了一种有效的方法，可以在较低的温度（<300℃）和真空下使用热湿润的Ag纳米粒子在熔融石英上制造无序亚波长结构（d-SWSs）。从理论和实验上，我们研究了膜厚，退火温度和蚀刻时间对d-SWS阵列的抗反射性能的影响。通过严格的耦合波分析获得的测量数据和计算结果显示出合理相似的趋势。对于具有10nm厚的Ag膜的样品，在500-1300 nm的宽波长范围内获得了良好的光传输特性（一侧，T_（ave）〜95.6％），最大值为〜96还获得了在850nm的波长下的％。此外，与传统的Ta_2O_5 / SiO_2多层涂层相比，d-SWSs在800℃和1000℃的高温下具有出色的光学和热稳定性。

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