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首页> 外文期刊>Optics Letters >Ultralow-refractive-index optical thin films through nanoscale etching of ordered mesoporous silica films
【24h】

Ultralow-refractive-index optical thin films through nanoscale etching of ordered mesoporous silica films

机译：通过对有序介孔二氧化硅膜进行纳米级刻蚀的超低折射率光学薄膜

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A great deal of intensive research has been conducted to obtain high-quality transparent ultralow-refractive-index and ultralow-dielectric-constant thin films for microptics and microelectronics applications. Here, we report a simple procedure to prepare highly porous silica thin films with high optical quality and water resistance through nanoetching of mesoporous silica films followed by fluoroalkylsilane surface modification. The films possess an ultralow refractive index of 1.03 (800 nm) and an ultralow dielectric constant of 1.30 (100 kHz), to our knowledge the lowest values ever reported in thin film materials. The films are superhydrophobic (water contact angle velence 156 deg), thus exhibit high moisture stability.
机译：为了获得用于微光学和微电子应用的高质量透明超低折射率和超低介电常数薄膜，已经进行了大量的深入研究。在这里，我们报告了一个简单的过程，该过程可通过对中孔二氧化硅膜进行纳米蚀刻，然后进行氟烷基硅烷表面改性来制备具有高光学质量和耐水性的高度多孔二氧化硅薄膜。薄膜具有1.03（800 nm）的超低折射率和1.30（100 kHz）的超低介电常数，据我们所知，这是薄膜材料中报道的最低值。薄膜具有超疏水性（水接触角velence 156度），因此具有很高的湿气稳定性。

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