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Absolute photoionization cross section of the methyl radical

机译：甲基的绝对光电离截面

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The absolute photoionization cross section of the methyl radical was determined relative to that of NO at photon energies of 10.54 eV using the CH_3 + NO_2 → CH_3O + NO reaction. Kinetics of this reaction was studied in a fast flow reactor coupled with VUV laser photoionization. Simulation of the kinetics of the decrease of the methyl signal and the corresponding increase of the NO signal (in combination with the NO absolute photoionization cross section determined by Watanabe (Watanabe, K. J. Chem. Phys. 1954, 22, 1564; Watanabe, K.; Matsunaga, F. M.; Sakai, H. Appl. Opt. 1967, 6, 391)), yields the absolute photoionization cross section of the methyl radical: σCH_3(10.54 eV) = 5.1 (1.2) × 10~(-18) cm~2 (95% confidence interval). This result is in good agreement with the recently published measurements by Taatjes et al. (Taatjes, C. A.; Osborn, D. L.; Selby, T. M.; Meloni, G.; Fan, H.; Pratt, S. T. J. Phys. Chem. A 2008, 112, 9336) and by Gans et al. (Gans, B.; Mendes, L. A. V.; Boyé- Péronne, S.; Douin, S.; Garcia, G.; Soldi-Lose, H.; Cunha de Miranda, B. K.; Alcaraz, C.; Carrasco, N.; Pernot, P.; Gauyacq, D. J. Phys. Chem. A 2009, 114, 3237).
机译：使用CH_3 + NO_2→CH_3O + NO反应，在10.54 eV的光子能量下，确定相对于NO而言，甲基的绝对光电离截面。在与VUV激光光电离耦合的快速流动反应器中研究了该反应的动力学。模拟甲基信号减少和NO信号相应增加的动力学（结合由Watanabe确定的NO绝对光电离截面（Watanabe，KJ Chem.Phys.1954，22，1564; Watanabe，K. ; Matsunaga，FM; Sakai，H.Appl.Opt.1967，6，391）），得到甲基的绝对光电离截面：σCH_3（10.54 eV）= 5.1（1.2）×10〜（-18）cm 〜2（95％置信区间）。该结果与Taatjes等人最近发表的测量结果高度吻合。 （Taatjes，C. A .; Osborn，D. L .; Selby，T. M .; Meloni，G .; Fan，H .; Pratt，S.T. J. Phys。Chem。A 2008，112，9336）和Gans等人的文章。 （B.甘斯; LAV Mendes;S.Boyé-Péronne; S.Douin; G。加西亚; H.Soldi-Lose; BK的Cunha de Miranda; C.Alcaraz; N.Carras; Pernot，P。; Gauyacq，DJ Phys.Chem.A 2009，114，3237）。

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