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首页> 外文期刊>The journal of physical chemistry, B. Condensed matter, materials, surfaces, interfaces & biophysical >Highly Selective Surface Lewis Acid-Base Reaction: Trimethylamine on Si(100)c(4X2)
【24h】

Highly Selective Surface Lewis Acid-Base Reaction: Trimethylamine on Si(100)c(4X2)

机译：高度选择性的表面路易斯酸碱反应：Si（100）c（4X2）上的三甲胺

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Adsorption of trimethylamine(TMA)on Si(100)c(4X2)has been studied using scanning tunneling microscopy(STM),valence photoelectron spectroscopy(PES),and high-resolution electron energy spectroscopy(HREELS) between 80 and 300 K.The TMA molecule is adsorbed nondissociatively only on the down dimer atom and appears as a triangle shaped bright protrusion in the occupied state STM image.The saturation coverage of TMA onSi(100)is estimated to be approx0.25 ML(ML-one molecule per surface Si atom).The PES and HREELS results suggest that TMA is adsorbed through the N lone pair by forming an Si-N dative bond.The HREELS spectra indicate that the symmetry of adsorbed TMA is C,and the molecular C_3 axis is tilted from the surface normal.The stretching mode of the SiN dative bond is observed at 525 cm~(-1).Thus the combined STM,PES,and HREELS results indicate that the chemisorption of TMA on Si(100)c(4X2)occurs selectively on the down dimer atom via dative bonding.Hence,the TMA adsorption on Si(100)c(4X2) is purely site-specific on the down dimer atom and can be categorized in Lewis acid-base reaction.The acidity of the down dimer atom is also discussed according to the analysis of vibrational spectra.
机译：利用扫描隧道显微镜（STM），价光电子能谱（PES）和高分辨率电子能谱（HREELS）研究了80至300 K之间三甲胺（TMA）在Si（100）c（4X2）上的吸附。 TMA分子仅在下二聚体原子上非离解性吸附，并在占据状态STM图像中显示为三角形的明亮突起.TMA在Si（100）上的饱和覆盖率估计约为0.25 ML（每个表面一个分子一个ML） PES和HREELS结果表明TMA通过形成一个Si-N配位键通过N个孤对进行吸附.HREELS光谱表明被吸附的TMA的对称性为C，分子C_3轴从C倾斜。在525 cm〜（-1）处观察到SiN键的拉伸方式。因此STM，PES和HREELS的组合结果表明，TMA在Si（100）c（4X2）上的化学吸附是选择性的因此，TMA吸附在Si（100）c（ 4X2）完全是特定于下游二聚体原子的位点，可以在Lewis酸碱反应中进行分类。还通过振动光谱分析讨论了下游二聚体原子的酸度。

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