机译:高压H-2曝光调整单壁碳纳米管的电子结构
Seoul Natl Univ Dept Phys &
Astron Seoul 08826 South Korea;
Leibniz Univ Hannover Inst Festkorperphys D-30167 Hannover Germany;
KIST Jeonbuk 55324 South Korea;
Incheon Natl Univ Dept Phys Incheon 22012 South Korea;
Incheon Natl Univ Dept Phys Incheon 22012 South Korea;
Incheon Natl Univ Dept Phys Incheon 22012 South Korea;
Incheon Natl Univ Dept Phys Incheon 22012 South Korea;
Seoul Natl Univ Inst Appl Phys Seoul 08826 South Korea;
single-walled carbon nanotubes; hexagonal boron nitride; hydrogenation; high-pressure H-2; n-type doping; in situ electrical measurements;
机译:高压H-2曝光调整单壁碳纳米管的电子结构
机译:单壁碳纳米管电子结构的电化学调节:原位拉曼光谱和vis-NIR研究
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机译:单壁碳纳米管:用于电子设备的高纯度半导体单壁碳纳米管的溶液加工(ADV。Mater。9/2019)