机译:单层MOS2中工程化的缺陷的量化
North Carolina A&
T State Univ Dept Nanoengn 2907 East Gate City Blvd Greensboro NC 27401 USA;
Univ North Carolina Greensboro Dept Nanosci 2907 East Gate City Blvd Greensboro NC 27401 USA;
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机译:单层MOS2中工程化的缺陷的量化
机译:用于改善氢进化反应的工程单层MOS2缺陷
机译:缺陷工程单层MoS2用于改善氢释放反应
机译:分层气相生长的MOS2中的缺陷
机译:单层MoS2中的筛选,缺陷和悬空键引起的光学损伤阈值
机译:扫描隧道显微镜揭示剥落的MoS2单层的固有缺陷结构
机译:缺陷工程单层MOS2,用于改善氢进化反应