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Tensile properties of polymer nanowires fabricated via two-photon lithography

机译:通过双光子光刻制造的聚合物纳米线的拉伸性能

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摘要

Two-photon lithography enables fabrication of complex 3D structures with nanoscale features. However, its utility is limited by the lack of knowledge about the process-property relationship. Here, we have designed micro-electro-mechanical systems (MEMS)-based miniaturized tensile testers to measure the stress-strain response of the individual polymer nanowires. Measurements demonstrate that geometrically indistinguishable nanowires can exhibit widely varying material behavior ranging from brittle to soft plastic based on processing conditions. In addition, a distinct size-scaling effect was observed for post-processed nanowires wherein thinner nanowires have up to 2 times higher properties. The process-property characterization presented here will be critical for predictive design of functional 3D structures with nanoscale features.
机译:双光子光刻使得能够用纳米级特征制造复杂的3D结构。 然而,其实用性受到对过程性质关系缺乏知识的限制。 这里,我们设计了基于微型机械系统(MEMS)的小型化拉伸试验机,以测量各聚合物纳米线的应力 - 应变响应。 测量表明,基于加工条件,几何凹陷纳米线可以表现出从脆弱到软塑料的广泛变化的材料行为。 另外,对于后处理的纳米线观察到不同的尺寸缩放效果,其中较薄的纳米线具有高达较高的2倍的性质。 这里呈现的过程 - 属性表征对于具有纳米级特征的功能3D结构的预测设计至关重要。

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  • 来源
    《RSC Advances》 |2019年第49期|共6页
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  • 正文语种 eng
  • 中图分类 化学;
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