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机译:Ar-2(+),ARTI +和Ti-2(+)二聚体形成在磁控溅射放电中的压力依赖性
Ernst Moritz Arndt Univ Greifswald Inst Phys Felix Hausdorff Str 6 D-17487 Greifswald Germany;
Acad Sci Czech Republ Inst Phys Na Slovance 2 Prague 18221 Czech Republic;
Univ South Bohemia Fac Sci Branisovska 1760 Ceske Budejovice 37005 Czech Republic;
Acad Sci Czech Republ Inst Phys Na Slovance 2 Prague 18221 Czech Republic;
Ernst Moritz Arndt Univ Greifswald Inst Phys Felix Hausdorff Str 6 D-17487 Greifswald Germany;
magnetron sputtering; ion mass spectrometry; dimer formation; cluster formation;
机译:Ar-2(+),ARTI +和Ti-2(+)二聚体形成在磁控溅射放电中的压力依赖性
机译:溅射气体压力和目标功率依赖于DC-Magnetron溅射Alb2型WB2膜的微观结构和性能
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射在不同工作压力下沉积的AlN薄膜的结构性能和残余应力的比较
机译:压力依赖性对RF磁控溅射沉积的纳释氧化锌的影响
机译:大功率脉冲磁控管溅射放电的表征。
机译:放电功率和热处理对射频磁控溅射沉积磷酸钙涂层的影响
机译:从调制脉冲功率磁控溅射(MPPMS)到深振荡磁控溅射(DOMS)的延迟放电桥接两种溅射模式