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新規成膜法による透明導電膜作製

机译：通过新的成膜方法制备透明导电膜

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パルスレーザー蒸着とレーザーアシスト照射を組み合わせた新しい成膜法を開発し,室温で1.2×10~(-4) Ω-cm，200°Cで8.9×10~(-5) Ω-cmという世界最高クラスの導電率の透明導電膜を作製することに成功した。

机译：一种新的成膜方法，结合脉冲激光沉积和激光辅助照射，在室温1.2×10至（-4）Ω-cm，8.9×10（-5）Ω-cm，在200°C（-5）Ω -CM成功地制作了一类电导率的透明导电膜。

著录项

来源
《工業材料》 |2001年第3期|共4页
作者
吉岡秀樹; 泉宏和; 石原嗣生;
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作者单位

兵庫県立工業技術センター;

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 jpn
中图分类工程材料学;
关键词

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