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首页> 外文期刊>Materials science in semiconductor processing >Synthesis and characterizations of (delta-Bi2O3)(0.93)(TiO2)(0.07) thin films grown by PLD technique for optoelectronics
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Synthesis and characterizations of (delta-Bi2O3)(0.93)(TiO2)(0.07) thin films grown by PLD technique for optoelectronics

机译：（Delta-Bi2O3）（0.93）（TiO 2）（0.07）薄膜通过PLD技术进行光电子技术的合成及表征

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In this work (delta-Bi2O3)(0.93)(TiO2)(0.07) nanocomposite thin films were synthesized by pulsed laser technique (PLD) onto glass substrate, XRD analysis revealed that the films have polycrystalline structure of cubic delta-Bi2O3 with preferred orientations, the chemical compositions were studied by FTIR which confirmed the presence of Bi-O-Ti and Ti-O-Bi vibration modes, AFM analysis showed the films were free of voids and cracks with RMS roughness of 10.3 nm and average grain size 55.27 nm, the optical properties indicated that the films have high transmittance (> 80%) in visible and NIR regions with high optical band gap of 3.8166 eV, these novel characteristics of this nanocomposite make it a promising optical material for optoelectronic applications.
机译：在该工作中（Delta-Bi2O3）（0.93）（TiO 2）（0.07）纳米复合薄膜通过脉冲激光技术（PLD）合成到玻璃基板上，XRD分析显示，膜具有优选取向的立方Δ-Bi2O3的多晶结构 ，通过FTIR研究了化学成分，所述FTIR证实了Bi-O-Ti和Ti-O-Bi振动模式的存在，AFM分析显示薄膜没有空隙和裂缝，RMS粗糙度为10.3nm，平均晶粒尺寸为55.27 nm ，光学性质表明，在具有3.8166eV的高光带间隙的可见光带隙中的可见光区域中具有高透射率（> 80％），这些纳米复合材料的这些新颖的特性使其成为光电应用的有希望的光学材料。

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