Another Kind of Focusing Mask

首页> 外文期刊>Sky & Telescope >Another Kind of Focusing Mask

【24h】

Another Kind of Focusing Mask

机译：另一种聚焦面具

获取原文

获取原文并翻译 | 示例

掌桥外文数据库（机构版） >>

开具论文收录证明 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

I thoroughly enjoyed Dick Suiter and Bill Zmek's article "Mesh Focusing Masks" (S&T: Jan. 2020, p. 30), and I will definitely try making my own Oleshko mask.

机译：我彻底享受了Dick Suitor和Bill Zmek的文章“网格聚焦面具”（S＆T：1月20日，第30页），我肯定会尝试制作自己的Oleshko面具。

著录项

来源
《Sky & Telescope》 |2020年第5期|共1页
作者

展开▼
作者单位

展开▼
收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类天文学;
关键词
thoroughly; Suiter; definitely;

机译：彻底;苏纳;绝对;

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. FOCUSING ON OUT-OF-FOCUS: ASSESSING DEFOCUS ESTIMATION ALGORITHMS FOR THE BENEFIT OF AUTOMATED IMAGE MASKING [J] . Verhoeven G. J. International Archives of the Photogrammetry, Remote Sensing and Spatial Information Sciences . 2018,第2aW8期

机译：关注焦点之外：评估自动图像处理的好处的模糊估计算法
2. MESH FOCUSING MASKS [J] . Sky & Telescope . 2020,第1期

机译：网格聚焦口罩
3. Another Kind of Focusing Mask [J] . Sky & Telescope . 2020,第5期

机译：另一种聚焦面具
4. Focused ion beam deposition of new materials: dielectric films for device modification and mask repair and tantalum films for x-ray mask repair [C] . Diane K. Stewart, Micrion Corp., Peabody, Electron-Beam, X-Ray, EUV, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing V . 1984

机译：聚焦于新材料的离子束沉积：用于器件修改和掩模修复的介电膜以及用于X射线掩模修复的钽膜
5. Key Challenges in EUV Mask Technology: Actinic Mask Inspection and Mask 3D Effects. [D] . Wang, Yow-Gwo. 2017

机译：EUV掩模技术的主要挑战：光化掩模检测和掩模3D效果。
6. Mirrors masks and motivation: Implicit and explicit self-focused attention influence effort-related cardiovascular reactivity [O] . Paul J. Silvia -1

机译：镜子面具和动机：隐含和明确的自我聚焦注意力影响努力相关的心血管反应性
7. FOCUSING ON OUT-OF-FOCUS: ASSESSING DEFOCUS ESTIMATION ALGORITHMS FOR THE BENEFIT OF AUTOMATED IMAGE MASKING [O] . G. J. Verhoeven 2018

机译：专注于焦点：评估散焦估计算法，以实现自动图像掩蔽的益处
8. Fast prototyping of high-aspect ratio, high-resolution x-ray masks by gas-assisted focused ion beam [R] . Hartley, F., Malek, C., Neogi, J. 2001

机译：通过气体辅助聚焦离子束快速进行高纵横比，高分辨率X射线掩模的原型设计

Another Kind of Focusing Mask

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅