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机译:衬底温度对脉冲激光沉积Cu2SNSE3薄膜微结构和热电性能的影响
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul 08826 South Korea;
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul 08826 South Korea;
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul 08826 South Korea;
Korea Inst Ceram Engn &
Technol Energy &
Environm Mat Div Jinju 52851 South Korea;
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul 08826 South Korea;
Thermoelectric Energy; Cu2SnSe3; Thin Film; Pulse Laser Deposition;
机译:衬底温度对脉冲激光沉积Cu2SNSE3薄膜微结构和热电性能的影响
机译:脉冲激光沉积在不同基板上制备的[Ca_2CoO_3] _xCoO_2薄膜的热电性能和微观结构
机译:使用脉冲激光沉积在各种基板上制造的[CA_2COO_3] _xCOO_2薄膜的热电性能和微观结构
机译:P型Bi_(0.5)SB_(1.5)TE_3和N型BI_2TE_(2.7)SE_(0.3)薄膜的微观结构和热电性能,由脉冲激光消融沉积
机译:脉冲激光烧蚀沉积二氧化锡薄膜的电学性能和微观结构。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:脉冲激光沉积Bi2O3:HO3 +薄膜晶体结构对晶体结构,形态学和发光性能的影响:HO3 +薄膜