Влияние быстрого отжига на электрофизические свойства структур SiO_2/Si с тонкими слоями анодного оксида кремния

著录项

• 来源
  《Физика и техника полупроводников》 |2006年第8期|共5页
• 作者

  И.Л.Баранов; Л.В.Табулина; Л.С.Становая; Т.Г.Русальская; I.L. Baranov; L.V. Tabulina; L.S. Stanovaya; T.G. Rusalskaya;

  展开▼
• 作者单位

  Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники 220013 Минск Белоруссия;

  Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники 220013 Минск Белоруссия;

  Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники 220013 Минск Белоруссия;

  Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники 220013 Минск Белоруссия;

  Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics 220013 Minsk Belarus;

  Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics 220013 Minsk Belarus;

  Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics 220013 Minsk Belarus;

  Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics 220013 Minsk Belarus;

  展开▼
• 收录信息
• 原文格式 PDF
• 正文语种 rus
• 中图分类 半导体物理学;
• 关键词