...
首页> 外文期刊>Доклады Академии наук Беларуси >РАЗВИТИЕ ТЕХНОЛОГИИ ФОРМИРОВАНИЯ СТРУКТУР КРЕМНИЙ-НА-ИЗОЛЯТОРЕ
【24h】

РАЗВИТИЕ ТЕХНОЛОГИИ ФОРМИРОВАНИЯ СТРУКТУР КРЕМНИЙ-НА-ИЗОЛЯТОРЕ

机译:硅 - 绝缘体结构形成技术的发展

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

Одной из важных причин развития технологии создания структур кремний-на-изоляторе (КНИ) являлась большая перспективность их использования для построения аппаратуры с высокой стойкостью к радиационным излучениям, в особенности квоздействию излучения с большой мощностью дозы. Диэлектрическая развязка в КНИ-приборах препятствует паразитному взаимодействию элементов, групп элементов и подложки, уменьшает число паразитных элементов и приводит к резкому повышению радиационной стойкости к им-пульсным воздействиям, тепло- и помехоустойчивости схем.
机译:开发硅 - 绝缘体结构(书籍)结构的重要原因之一是其用来建立具有高抗辐射辐射的设备的巨大承诺,尤其是辐射的辐射剂量的高功率。预订装置中的电介质交换可防止元件的寄生相互作用,元件组和衬底,减少寄生元件的数量,并导致辐射抗性的急剧增加,对实施例的抗辐射效应,热量和噪声抗扰度。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号