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【24h】

Neutral-layer-free directed self-assembly of block copolymer in trench using capillary force-induced meniscus

机译：使用毛细管力诱导的弯月面在沟槽中无间嵌段共聚物的中性层导向自组装

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We propose trench-directed self-assembly (TDSA) of a block copolymer (BCP) driven by a capillary force-induced meniscus as a facile scalable nanolithography method. Unlike conventional directed self-assembly methods, TDSA enables the achievement of neutral surface-free vertical orientations of the BCP nanopatterns irrespective of the polarizability of the substrate, which may be, for example, a ceramic (SiO2) on Semiconductor (Si). In our demonstration of the proposed method, we generated various morphologies of the BCP nanopatterns by varying the trench width, and molecular weight of the BCP. The proposed TDSA method is potentially advantageous for the design of a process/device layout required for the development of an effective manufacturing process.
机译：我们提出了一种由毛细管力诱导的弯月面驱动的嵌段共聚物（BCP）沟槽定向自组装（TDSA）方法，作为一种易于扩展的纳米光刻方法。与传统的定向自组装方法不同，TDSA能够实现BCP纳米图案的中性无表面垂直取向，而不考虑衬底的极化率，例如，衬底可以是半导体（Si）上的陶瓷（SiO2）。在我们对所提出方法的演示中，我们通过改变沟槽宽度和BCP的分子量来生成BCP纳米图案的各种形态。提出的TDSA方法对于设计有效制造工艺所需的工艺/设备布局具有潜在优势。

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