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Ellipsometric scatterometry for the metrology of sub-0.1-mu m-linewidth structures

机译：椭偏散射测量法，用于测量线宽小于0.1微米的结构

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We describe a modification to our existing scatterometry technique for extracting the relative phase and amplitude of the electric field diffracted from a grating. This modification represents a novel combination of aspects of ellipsometry and scatterometry to provide improved sensitivity to small variations in the linewidth of subwavelength gratings compared with conventional scatterometer measurements. We present preliminary theoretical and experimental results that illustrate the possibility of the ellipsometric scatterometry technique providing a metrology tool for characterizing sub-0.1-mu m-linewidth. (C) 1998 Optical Society of America. [References: 10]
机译：我们描述了一种对现有散射测量技术的改进，该技术用于提取从光栅衍射的电场的相对相位和幅度。与常规散射仪测量相比，此修改代表椭圆偏振和散射测量方面的新颖组合，以提高对亚波长光栅线宽微小变化的敏感性。我们提供了初步的理论和实验结果，这些结果说明了椭圆散射散射技术为表征0.1微米以下线宽提供计量工具的可能性。 （C）1998年美国眼镜学会。 [参考：10]

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